Вакуумная обработка ламп

Отжиг в водороде. Во время отжига водород восстанавливает окислы большинства металлов, диффундирует с высокой скоростью в глубь их кристаллической решетки, вытесняя ряд других газов, а затем легко удаляется из деталей в процессе вакуумной обработки ламп. Для отжига используется водород с минимальным количеством примесей кислорода и влаги при достаточно высокой скорости его подачи и вывода из печей (влаги не более 0,001 7о и кислорода 0,005% в объемном исчислении при скорости подачи 0,3—0,4 м ч). В водороде отжигают большинство металлов вольфрам, молибден, никель, бескислородную медь и их сплавы. [c.197]

Другая группа ламп тлеющего разряда имеет катод из никеля марки ЛНО или ЛНМ, поверхность которого покрыта методом пульверизации тонким слоем двойного или тройного карбоната щелочноземельных металлов. При нафеве катода высокой частотой во время вакуумной обработки лампы обеспечивается разложение карбо- [c.293]

ВАКУУМНАЯ ОБРАБОТКА ЛАМП [c.354]

При разработке технологического процесса вакуумной обработки ламп необходимо обеспечить [c.355]

Обезгаживание металлических деталей во время вакуумной обработки ламп производят следующими основными методами прокаливанием при пропускании тока через деталь нагревом токами высокой частоты электронной бомбардировкой ионной бомбардировкой. [c.400]

Обезгаживание колб и стеклянных деталей производят нагреванием их в электрических или газовых печах в процессе вакуумной обработки ламп. [c.401]

Необходимо отметить, что на некоторых этапах обработки газоразрядных (люминесцентных) ламп выделяющиеся из катода и люминесцентного покрытия газы должны немедленно удаляться. Поэтому при разработке схемы вакуумной обработки ламп на откачных автоматах следует правильно сочетать промывки с непрерывной откачкой. [c.408]

ВАКУУМНАЯ ОБРАБОТКА ЛАМП НАКАЛИВАНИЯ [c.409]

Вакуумной обработкой ламп накаливания обеспечивается удаление атмосферного воздуха, обезгаживание стекла и внутренних деталей ламп, наполнение инертными газами (для специальных ламп — кислородом), дозирование галогенов и обеспечение герметичности оболочки. [c.409]

Вакуумная обработка ламп на откачных постах применяется в основном в лабораторной практике и для выпуска ламп небольшими партиями, где экономически нецелесообразно автоматизировать процессы, а также в случаях, когда полностью режимы вакуумной обработки пока не поддаются автоматизации. [c.416]

Описание процесса-, по окончании вакуумной обработки лампы олово 4 плавят с помощью нагревателя 5. [c.534]

Инертные газы применяются для наполнения ламп накаливания и газоразрядных ламп, создания защитной и восстановительной сред на технологических операциях, газовой промывки ламп во время вакуумной обработки и выполнения многих технологических операций. [c.129]

Вакуумная обработка является одной из основных и сложных операций изготовления источников света. Она вклю чает такие важнейшие этапы, как удаление основной массы воздуха из о бъема ламп, обезгаживание стекла, люминофора и внутренних деталей ламп, активирование катода, введение в лампу паров металлов и разных соединений, наполнение ламп инертными газами, отпайка штенгеля, т. е.. получение герметичных приборов, обеспечивающих выполнение обоих функций в процессе эксплуатации. [c.354]

При вакуумной обработке некоторых типов ламп выгодно вводить промывочный газ на переходах между позициями откачного автомата. [c.408]

Откачные автоматы предназначены для вакуумной обработки массовых и серийно выпускаемых ламп. По сравнению с откачными постами они имеют значительно большую производительность. На автоматах отпадают такие ручные операции, как напайка ламп, обезгаживание стекла и внутренних деталей ламп, промывка вакуумной системы и наполнение ламп газами и, наконец, отпайка ламп. И самое главное, если на откачных постах обрабатывается одновременно группа (партия) ламп то на откачных автоматах происходит непрерывный поточный процесс обработки ламп. При таком построении технологического процесса легче воздействовать на режимы обработки ламп, и тем самым создаются условия для автоматизации различных операций. [c.411]

ВАКУУМНАЯ ОБРАБОТКА ГАЗОРАЗРЯДНЫХ ЛАМП [c.415]

Процесс вакуумной обработки газоразрядных ламп значительно сложнее, чем для ламп накаливания, поскольку добавляется еще ряд сложных операций, от которых в значительной степени зависит качество и надежность работы ламп активирование катодов, дозирование ртути, наполнение инертными газами и др. [c.415]

Учитывая вышеизложенное, механизировать технологические процессы вакуумной обработки газоразрядных ламп значительно сложнее, нежели ламп накаливания. [c.416]

Относительно низкий выход годных газоразрядных ламп (по сравнению с лампами накаливания) говорит о том, что обеспечить стабильность технологических режимов вакуумной обработки газоразрядных ламп труднее. [c.416]

Лампа после вакуумной обработки подвергается 3-й тренировке на специальном отдельном испытательном стенде, но иногда 3-ю тренировку производят на откачном посту. [c.419]

Обработка ртутно-кварцевых ламп (ДРТ и ДРЛ). Вакуумная обработка горелок дуговых ртутных ламп [c.422]

Для некоторых видов газоразрядных ламп вакуумная обработка включает также частичную или первичную их тренировку. [c.462]

Вакуум, получение 355 Вакуумная обработка газоразрядных ламп 415 [c.482]

При высокочастотной электроискровой обработке (рис. 7.4) конденсатор С разряжается при замыкании первичной цепи импульсного трансформатора прерывателем, вакуумной лампой или тиратроном. Инструмент-электрод и заготовка включены во вторичную цепь трансформатора, что исключает возникновение дугового разряда. [c.404]

Таким образом, можно отменить, что вакуумная обработка ламп является одной из центральных технологйче-ских операций, от которой зависят качество, надежность и долговечность лам П. [c.355]

Вакуумная обработка ламп представляет собой для большинства нсточинков света (за исключением вакуумных ламп накаливания) сложный комплекс операций, которые после собственно откачки и обезгажнвання внутренннх деталей лампы должны обеспечить наполнение колбы соответствующим инертным газом или смесью газов и дополнительную обработку тела накала, катода и других элементов. [c.462]

Азот служит для создания защитной среды на технологических операциях, восстановительной среды в смеси с водородом (препарировочный газ), промывки ламп во время вакуумной обработки на откачньгх установках (автоматах) и наполнения ламп в смеси с ин т-ными газами, для получения аммиака и др. [c.130]

Для одш с групп источников света (например, вакуумных ламп накаливания) вакуумной обработкой предусматриваются только удаление воздуха, обезгажива-ние стекла и внутренних деталей, для других групп (ртутные дуговые, люминесцентные лампы и др.), кроме откачки, производится активирование катодов, дозирование ртути и наполнение ламп инертными газами. [c.354]

От правильно выбранного режима вакуумной обработки и от соблюдения технологической дисциплины на этой операции зависят, как отмечалось выше, надежность работы ламп и их долговечность. Так, в лампдх ндкали-354 [c.354]

Ответственные и трудно обезгаживаемые детали обез-гаживаются в два приема — предварительно (до сборки ламп) и окончательно (при вакуумной обработке). [c.400]

Вакуумная обработка прожекторных ламп СоСтойт йз следующих операций [c.411]

Вакуумная обработка ксеноновых шаровых разборных ламп (ДКСР) производится аналогично обработке ламп ДКСШ, Разница состоит в том, что лампы не напаиваются на вилку откачного поста, а ввертываются штенге-лем в специальное откачное гнездо. [c.418]

Во время вакуумной обработки ксеноновых трубчатых ламп производятся одновременно цоколевание ламп горячей мастикой и маркировка. [c.419]

На автоматах производится вакуумная обработкй наиболее массовых типов газоразрядных источников света люминесцентных (прямых, U-образных, кольцевых, малогабаритных и др.), дуговых ртутных ламп с исцрав- [c.420]

Поскольку в отечественной промышленности для производства этих ламп в основном эксплуатируется оборудование венгерского производства (фирмы Тунгс-рам ), то мы рассмотрим вакуумную обработку люми- [c.420]

Во время вакуумной обработки обезгаживаются электроды лампы, подвергается тепловой обработке и преобретает эмиссионные свойства катод. [c.431]

Однако твердо установлено, что сразу после вакуумной обработки пера,мет ры ламп находятся ниже номинала и нестабильны. Причиной этого является то, что во время вакуум ной обработки в большинстве случаев катод не получает полной активировки и его эмиссионная способность еще недостаточна. Кроме того, после вакуумной обработки электроды ламп содержат на своей поверхности газы, адсорбированные во время отпайки, окислы и другие соединения, на пове рхности электродов остаются неровности, микроскопические посторонние частицы и включения, комочки распыленного оксида и т. п., вызывающие в высоковольтных лампах искрения и пробои, разрушающие катод. [c.431]

Нжоторые импульсные кварцевые лампы целесообразно подвергать тренИ ровке во время их вакуумной обработки. Так, ввиду большой чувствительности напряжения зажигания импульсных ламп к незначительным газовым примесям, выделяемым из внутренних деталей ламп при первых вспышках, импульсные лампы в ходе вакуумной обработки на откачном посту подвергают нескольким сериям импульсных разрядов в форсированном режиме. После каждой тренировочной серии загрязнения удаляются путем вымораживания газа в ловушке с последующей откачкой вымороженного остатка и повторным наполнением ламп чистым газом до тех пор, пока напряжение зажигания практически пе рестает увеличиваться. [c.431]

При изготовлении цельнометаллических электронных ламп часто используют щтенгели из FeNi, которые на время откачки приваривают к стеклянной трубке вакуумной системы после откачки и вакуумной обработки электронной лампы металлический переход обычно герметично пережимают в горячем состоянии, а потом заваривают или запаивают. Вследствие большой дуктильности материала в отожженном состоянии такая сильная деформация не приводит к возникновению трещин. [c.224]

В лампах с оксидным катодом поток электронов во время обезгаживания используют одновременно для активирования оксидного слоя (см. гл. 24). В табл. 9-2-7 в виде примера описан режим вакуумной обработки усилительной лампы средней мощности при индивидуальной откачке а посту с применением электронной бомбардировки. При откачке на автоматах небольших электронных ламп с оксидными катодами (приемно-уоилительные лампы) в настоящее время для обезгажива- ия электродов метод электронной бомбардировки не применяют. В этом случае ограничиваются обезгаживанием деталей в.ысоко-частотным нагреванием, обработкой и обезгаживанием катодов прямым пропусканием тока, а также распылением бариевого геттера нагревом током высокой частоты, после чего электронную лампу отпаивают от наеоса. Отдельные электроды этих ламп нагружают электрически уже после отпайки яа тренировочном стенде, причем выделяющиеся дополнительно газы поглощаются зеркалом геттера. [c.502]

Обработка ксеноновых шаровых ламп. Вакуумная схема откачного поста для ламп ДКСШ-1000 изображена ча рис. 8-32. [c.416]

Обработка ксеноновых трубчатых ламп (ДКСТ). Принципиальная вакуумная схема откачного поста для ламп ДКСТ-10 000 изображена на рис. 8-33. [c.418]

Каждая машина, автомат или полуавтомат сборочной линии представляют собой сложный комплекс синхронно связанных элементов устройств загрузки, привода, исполнительных механизмов, разгрузочно-перегрузочных приспособлений, контрольных датчиков, реле н приборов. Например, на откачном полуавтомате последовательно осуществляются автоматическая подача, надежная фиксация в держателях и присоединение заваренных ламп к вакуумной системе, откачка, обезгаживание колб и внутренних деталей, многократная промывка нейтральными газами, наполнение газом и отпайка лампы. Кроме того, на таком же полуавтомате для газоразрядных ламп проводится обработка оксидного катода токами высокой частоты или включением в импульсный режим на высоких и сверхвысоких напря- жениях. Затем в лампу автоматически вводятся строго определенные дозы ртути и инертного газа, после чего следуют механизированная отпайка и перегрузка лампы на межоперационный конвейер. [c.457]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...