Измерения температуры плазменной струи

Говоря о результатах экспериментального измерения температуры плазменных струй, нельзя не отметить существенной разницы между электронной и газовой Т температурами [26, 85, 97], имеющей место при некоторых режимах работы. [c.160]

Температура плазменной струи измерялась аналогично предыдущему случаю. Ее удалось измерить лишь у основания струи при напряжении 0,5 кв ( 10000°К). По мере возрастания напряжения расширение струи увеличивается, она становится более неоднородной, и производить измерение температуры указанным способом не представляется возможным. [c.270]

Для условий работы электродов в ЭИ-устройствах S - 14-20 мкм, а глубина лунки при этом оценивается в 10-15 мкм. Результаты расчета и экспериментальные измерения говорят о том, что скорость съема металла с эрозионного следа под действием плазменной струи близка к скорости движения фронта нагрева до температуры фазового перехода за счет теплопроводности. Закаленный металл, застывший в виде кольцевых валиков или отдельных островков-наплывов на не подвергнутой электрической эрозии поверхности, имеет слабое сцепление с материалом электрода, в связи с чем при последующих импульсах он отслаивается. Причиной слабого сцепления может явиться недостаточное количество запасенной в расплавленном металле тепловой энергии для расплавления поверхности электрода и образования единой кристаллической решетки. Это подтверждается также формой зависимости эрозии электрода от количества подаваемых импульсов (рис.4.6). С увеличением количества импульсов эрозия возрастает не по прямой линии, а по ломаной с различными наклонами. Участки с наибольшей крутизной (большой эрозионный износ) соответствуют отслаиванию валиков или отдельных островков-наплывов металла от электрода. [c.170]

Были проведены детальные спектроскопические исследования плазменной струи, образующейся при лазерном воздействии на медную пластинку. Измерение температуры производилось по методу относительных интенсивностей с использованием двух пар линий меди 5105,5 и 5153,2 5105,5 и 4530,8 А [7, 8] как вдоль струи, так и по ее радиусу. Погрешность измерения температуры в среднем 10% - [c.268]

Основной недостаток описанного метода заключается в том, что он применим только для измерения средних температур по сечению плазменной струи. [c.60]

Проблема измерения температуры плазменной струи весьма сложна. В зависимости от уровня температуры и давления струи применяются различные методы. Подробное описание и анализ всех этих методов выходит за рамки этой книги, поэтому некоторые методы будут здесь изложены более детально, тогда как другие лишь упомянугы. [c.286]

Другой важной характеристикой газового потока является его скорость. Помимо обычных газодинамических методов ее определения (с помощью трубки Пито) для измерения локальной скорости применяется метод фоторегистрации (фоторазвертки) неоднородностей плазменной струи [Л. 11-10]. Он основан на том, что газ на выходе из сопла электродугового подогревателя состоит из чередующихся горячих и относительно более холодных областей. Светимость газа резко меняется с изменением температуры. При измерении скорости этим методом движение потока осуществляется перпендикулярно перемещению кинопленки, в результате чего на ней получаются наклонные следы. В итоге определение скорости струи сводится к измерению угла наклона следов неоднородностей при известных линейной скорости перемещения пленки и масштабе изображения. [c.323]

По оси струи на расстоянии менее 38 мм от места входа ее в слой отмечались пульсации температуры (равные примерно 100° С), особенно заметные, когда подводимая мощность превышала 1 кет. Видимо, из-за эжекции частиц струей плазмы происходили быстрое нарастание двухфазного (среда — частицы) пограничного слоя струи, смыкание ее газового факела и периодические отрывы его с образованием пузырей аналогично появлению пузырей при распространении в псевдоожи-женном слое турбулентных низкотемпературных газовых струй, наблюдавшемуся автором [Л. 350]. Уже поэтому закономерна пульсация температуры по оси струи — в зоне образования и движения пузырей. Следует отметить, что для восходящей высокотемпературной струи в более холодном псевдоожиженном слое эффект эжекции частиц может быть сильнее, чем в изотермическом слое, из-за быстрого уменьшения удельного объема плазменного газа при охлаждении. Это, видимо, позволяет интенсивно эжектировать даже тонкодисперсные частицы, которые в изотермическом слое увлекаются слабо. Улучшение условий эжекции подтверждаются измерениями авторов (Л. 472], показавшими, что давление в плазменной струе ниже входа ее в псевдоожи-женный слой значительно меньше статического давления в слое на уровне решетки, а также самим фактом очень быстрого охлаждения плазменной струи в псевдоожиженном слое, связанным, по нашему мнению, в первую очередь с увеличением большого количества тонко-дисперсных частиц, а не с радиационным обменом, которому сами авторы 1[Л. 472] отводят несколько преувеличенную роль, считая, что им обусловлена главная часть теплообмена струи в поперечном направлении . Во всяком случае в середине проводившегося процесса глубокого охлаждения струи с 6 000 до 80—100° С, когда температура тонкой, имевшей малую оптическую толщину струи была уже в пределах 1000—1500° С, не приходилось ожидать существенной теплоотдачи радиацией непосредственно от струи газа, тем не менее и эта [c.63]

Полученные результаты показали, что температура и концентрация заряженных частиц в плазменной струе в зависимости от величины плотности энергии, концентрируемой на поверхности поглощающего вещества, в диапазоне плотностей энергии 10 —10 вт1см почти не изменяются и составляют 7000—10 000° К, концентрация заряженных частиц 5- 10 —10 см . Изменение их вдоль и по радиусу струи также незначительно и лежит в пределах точности эксперимента. При уменьшении потока излучения до 10 вт/см- количественные измерения по спектру испускания атома меди провесп не удалось. [c.268]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...