Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Изоэлектрическая точка поверхност

ИЗОЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ТОЧКИ ПОВЕРХНОСТИ ОКИСЛОВ В ВОДНОЙ СРЕДЕ  [c.189]

Изучение ориентации жидких кристаллов на поверхности аппретированных силанами минеральных наполнителей [20] позволило предположить, что ориентация может распространяться и на полимерную фазу. Ориентация жидкого кристалла зависит от природы силана, эффективность которого определяется pH раствора, соответствующего изоэлектрической точке поверхности.  [c.193]


Изоэлектрическая точка поверхности 188—1193  [c.292]

В дальнейших работах свойства пленки в значительной мере связывались со значением pH приэлектродного слоя. Так, Сна-вели [19] считал, что при электроосаждении хрома из хромовой кислоты на поверхности катода образуется своеобразная коллоидная мембрана. В зависимости от pH заряд коллоидных частиц меняется, причем изоэлектрическая точка находится около pH 6. Ниже этого значения коллоидные частицы заряжены положительно и перемещаются к катоду. Адсорбция сульфат-ионов вызывает замедление движения коллоидных частиц и, следовательно, уменьшает тормозящее действие коллоидной пленки. С изменением условий электролиза меняется pH приэлектродного слоя, что в свою очередь влияет на скорость движения коллоидных частиц. Сна-вели, так же как и Роджерс [20], считает, что восстановление хромовой кислоты идет стадийно и что атомарный водород может принимать участие в промежуточных стадиях восстановления ионов хрома.  [c.158]

Изоэлектрическая точка глины достигается при рН = = 5, гуминовых веществ — при рН=4. Поверхностные воды обычно имеют pH в пределах 6—8. Следовательно, эти вещества, находясь в поверхностной воде, диссоциируют как кислоты на поверхности их частиц располагаются анионы, а в диффузном слое концентрируются катионы. Благодаря этому частицы приобретают отрицательные заряды, и их система отличается относительно высокой степенью устойчивости.  [c.217]

С течением времени в результате адсорбции ионов закисного железа электрокинетический потенциал зерен загрузки понижается. Это влечет за собой затухание адсорбционной способности поверхности фильтрующей загрузки. Вместе с теме обрабатываемой воде имеется растворенный кислород, под действием которого адсорбированные ионы закисного железа окисляются и гидролизуются, что приводит к появлению на поверхности зерен загрузки пленки — качественно нового сорбента, в основном состоящего из гидроокиси железа. Пленка, как показали результаты исследований, обладает значительно большей сорбционной способностью, чем зерна чистой загрузки. Сорбционная способность гидроокиси железа, при прочих равных условиях, существенно зависит от pH и изменяется во времени. По Л. А. Кульскому, pH изоэлектрической точки гидрата окиси железа составляет около 6,5. С увеличением pH воды выше 6,5 возрастает значение отрицательного потенциала гидроокиси железа и соответственно этому повышается ее адсорбционная активность в отношении закиси железа и наоборот.  [c.53]


Понижая рн путем подкисления воды до pH изоэлектрической точки амфолитов, т. е. увеличивая концентрацию водородных ионов, являющихся в данном случае противоионами, можно нейтрализовать отрицательные заряды частиц. В результате этого устойчивость коллоидной системы уменьшается и становится возможным слипание однородных частиц. Однако силы прилипания, действующие между взвешенными частицами, имеющими заряды различных знаков, недостаточно велики по сравнению с силой тяжести, что препятствует образованию прочных и крупных агрегатов. Кроме того, этим процессом трудно управлять. Более эффективным способом коагуляции является процесс взаимодействия различных по своей природе веществ, загрязняющих поверхностные воды, и реагентов, добавляемых в осветляемую воду при ее коагуляции. Сущность такой коагуляции, получившей широкое практическое применение, базируется на слипании разнородных частиц в растворах электролитов. В смеси различных коллоидных и грубодисперсных веществ достаточно, чтобы частицы одного какого-либо вещества оказались неустойчивыми, чтобы вся система начала коагулировать. В воде при ее химической обработке таким неустойчивым компонентом является гидроокись алюминия или железа, образующаяся в результате гидролиза коагулянтов (см. ниже). Взвешенные частицы соединяются не непосредственно, а с помощью гидроокиси алюминия или железа, находящейся в изоэлектрическом состоянии. Частицы гидроокиси сорбируются на поверхностях взвешенных частиц и одновременно образуют как бы клеевые мостики , связывающие взвесь в достаточно крупные и тяжелые агрегаты, осаждающиеся с приемлемой скоростью.  [c.205]

На осповании этих соображений В. А. Дубровский следующим образом представляет себе механизм процесса полировки стекла. Вследствие образования на поверхности частиц крокуса пленки гидроокиси железа в нейтральных и кислых средах (pH <СрН изоэлектрической точки крокуса) эти частицы заряжены положительно. В этих же условиях гель  [c.233]


Смотреть страницы где упоминается термин Изоэлектрическая точка поверхност : [c.188]    [c.191]    [c.379]    [c.204]    [c.129]    [c.161]   
Поверхности раздела в полимерных композитах Том 6 (1978) -- [ c.188 ]



ПОИСК



Точка на поверхности



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте