Электроплазменные установки

В настоящее время не все электроплазменные установки позволяют добиться непрерывности или достаточной длительности процесса. Так, электродуговые плазмотроны обеспечивают непрерывную работу в течение около 200 ч при мощности 1 МВт и более. ВЧ-плазмотроны по ресурсу работы генераторной лампы могут обеспечить непрерывную работу в продолжение примерно 2000 ч, однако их мощность пока не превышает 1 МВт. Значительный выигрыш в ресурсе работы могут дать многодуговые плазмотроны. Предварительные исследования показали, что при определенных условиях их ресурс может составить 1000 ч и более, при этом одновременно можно увеличить к. п. д. многодугового плазмотрона по сравнению с существующими однодуговыми плазмотронами такой же мощности. [c.6]

ТРЕБОВАНИЯ, ПРЕДЪЯВЛЯЕМЫЕ К ЭЛЕКТРОПЛАЗМЕННЫМ УСТАНОВКАМ [c.162]

Электроплазменная установка должна иметь высокие технико-экономические показатели (максимально возможный к. п. д., высокий коэффициент мощности, малую массу, небольшие габариты, низкую стоимость, высокую надежность и простоту эксплуатации, большой ресурс работы, возможность быстрой замены изношенных деталей и т. п.). [c.162]

Электроплазменные установки не должны оказывать какого-либо влияния на окружающую среду и обслуживающий персонал. [c.163]

Дополнительными требованиями к высокочастотным электроплазменным установкам является применение средств, исключающих излучение электромагнитного поля или радиопомехи, и обеспечение соответствия санитарно-гигиеническим нормам. Однако в процессе эксплуатации этих установок из-за нарушения контактов в металлических каркасах, введения дополнительных технологических устройств излучение радиопомех может значительно возрасти. [c.163]

ДУГОВЫЕ ЭЛЕКТРОПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ [c.163]

Для питания дуговых плазмотронов используются источники постоянного, переменного (одно- и трехфазного) и импульсного тока. В некоторых случаях, особенно на первых этапах внедрения плазменных процессов, дуговые электроплазменные установки оснащались стандартными источниками, применяемыми для дуговой сварки. Однако, электрофизические особенности сжатой дуги и специфика технологии плазменно-дуговой обработки обусловили создание специальных источников питания дуговых плазмотронов. [c.163]

Дуговые электроплазменные установки с дросселями насыщения [c.164]

Дуговые электроплазменные установки с магнитоуправляемым трансформатором [c.167]

Дуговые электроплазменные установки на тиристорах [c.167]

Дуговые электроплазменные установки с параметрическим источником тока [c.170]

ВЫСОКОЧАСТОТНЫЕ ЭЛЕКТРОПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ [c.172]

Среди существующих ВЧ-электроплазменных установок наибольшее развитие получили высокочастотные индукционные (ВЧИ) электроплазменные установки с ламповыми генераторами. Наиболее характерной среди них является установка [c.172]

Защита от действия электромагнитного ноля. Высокочастотные электроплазменные установки являются наиболее сложными и опасными при экспл) атации, так как они создают большие электромагнитные поля. В соответствии с ГОСТ 12.1.006—76, предельно допустимая напряженность электромагнитного поля на рабочих местах и в местах возможного нахождения обслуживающего персонала не должна превышать в течение рабочего дня по электрической составляющей 50 В/м для частот от 60 кГц до [c.175]

Кроме вышеуказанного ВЧ-электроплазменная установка не должна являться источником индустриальных радиопомех. Испытание электроплазменной установки как источника радиопомех проводят в соответствии с требованиями ГОСТ 16842—71. По результатам испытаний составляется протокол. [c.175]

До работы на электроплазменной установке обслуживающий персонал должен пройти соответствующее обучение, изучить инструкции по эксплуатации и правилам техники безопасности и быть аттестованным с занесением результатов проверки знаний в специальный журнал. [c.179]

Эффективность электроплазменного процесса определяется в основном к. п. д. установки (источника питания и плазмотрона), к. п. д. технологического процесса и коэффициентом выхода готового продукта или коэффициентом использования исходного материала. Кроме этого, на эффективность электроплазменного процесса влияют простота и надежность ведения технологического процесса, стабильность и ресурс работы плазмотрона, надежность работы и простота эксплуатации электроплазменной установки. [c.197]

Существующие работы по электроплазменным процессам и установкам разрозненны (отдельные данные опубликованы в периодической и патентной литературе, в тезисах докладов различных конференций и симпозиумов, выпущенных малыми тиражами) по многим вопросам отсутствуют необходимые обобщения и рекомендации. Так, нет подробного анализа существующих конструкций плазмотронов и их характеристик. Нет систематизированных сведений о практическом применении высокочастотной плазмы и электродуговой плазмы переменного тока и их эффективности по сравнению с плазмой постоянного тока. Слабо и бессистемно освещены различные способы ведения технологических процессов, особенно современных. Все это существенно сдерживает развитие и применение электроплазменных процессов в народном хозяйстве. [c.3]

Цель настоящей работы состоит в систематизации и обобщении данных по электроплазменным процессам и установкам, что важно с научной и практической точек зрения, особенно в связи с необходимостью широкого внедрения новых высокоэффективных процессов и установок. Общие сведения о низкотемпературной плазме и ее особенностях здесь не приводятся, так как они достаточно подробно представлены в литературе, например [14, 27, 54, 85, 87, 95, 96]. [c.4]

Требование миниатюризации электроплазменных процессов обеспечивается в большинстве случаев высокой плотностью энерго-выделения в области обработки материалов. Наиболее высокие плотности энергии достигаются в электродуговых плазмотронах. ВЧ-установки, несмотря на их значительные размеры, также обеспечивают небольшие размеры плазменных реакторов по сравнению с оборудованием существующих технологических процессов. [c.6]

При оптимизации любого электроплазменного процесса после тщательного анализа всех параметров процесса, плазмотрона и установки в целом должно быть проведено ранжирование параметров по степени их влияния на качество получаемого материала и на эффективность технологического процесса. В случае невозможности количественной оценки некоторых параметров может использоваться качественная оценка с пятибалльной или иной шкалой. [c.189]

Немаловажное значение в повышении эффективности электроплазменных процессов играет стабильность и ресурс работы установки в целом. Так, ресурс работы ВЧИ-установки составляет 2000 ч, а ресурс работы ВЧИ-плазмотрона несколько ниже и определяется стойкостью разрядной камеры. Длительность непрерывной работы электродуговой установки определяется ресурсом работы электродов плазмотрона и составляет 200 ч. Использование многодуговых плазмотронов дает возможность обеспечить на имеющихся электродах ресурс непрерывной работы 1000 ч и более. [c.198]

ЭЛЕКТРОПЛАЗМЕННЫЕ ПРОЦЕССЫ И УСТАНОВКИ В МАШИНОСТРОЕНИИ [c.222]

Технологический процесс с применением низкотемпературной плазмы, являющийся оптимальным с народнохозяйственной точки зрения, определяет принцип действия плазмотрона, его констрз к-цию и основные электроэнергетические характеристики электроплазменной установки. Рассматривая различные виды плазмотронов с источниками питания и всей вспомогательной аппаратурой, обеспечивающей технологический процесс, как электроплазменные электротехнологические установки, можно сформулировать общие предъявляемые к ним требования. [c.162]

Высокочастотные электроплазменные установки, в отлнчие от дуговых, еще находятся в стадии начального развития. Существующие ВЧ-установки не обеспечивают высокого к. п. д., а целесообразность использования ВЧ-плазмы в технологических процессах установлена пока в ограниченно.м числе случаев. [c.174]

Защита от поражения электрическим током. Электроплазменные установки должны удовлетворять требованиям Правил устройства элек троустановок , Правил технической эксплуатации электроустановок потребителей и Правил техники безопасности при эксплуатации электроустановок потребителей , утвер- [c.174]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...