Высокочастотные электроплазменные установки

Дополнительными требованиями к высокочастотным электроплазменным установкам является применение средств, исключающих излучение электромагнитного поля или радиопомехи, и обеспечение соответствия санитарно-гигиеническим нормам. Однако в процессе эксплуатации этих установок из-за нарушения контактов в металлических каркасах, введения дополнительных технологических устройств излучение радиопомех может значительно возрасти. [c.163]

ВЫСОКОЧАСТОТНЫЕ ЭЛЕКТРОПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ [c.172]

Защита от действия электромагнитного ноля. Высокочастотные электроплазменные установки являются наиболее сложными и опасными при экспл) атации, так как они создают большие электромагнитные поля. В соответствии с ГОСТ 12.1.006—76, предельно допустимая напряженность электромагнитного поля на рабочих местах и в местах возможного нахождения обслуживающего персонала не должна превышать в течение рабочего дня по электрической составляющей 50 В/м для частот от 60 кГц до [c.175]

Среди существующих ВЧ-электроплазменных установок наибольшее развитие получили высокочастотные индукционные (ВЧИ) электроплазменные установки с ламповыми генераторами. Наиболее характерной среди них является установка [c.172]

Существующие работы по электроплазменным процессам и установкам разрозненны (отдельные данные опубликованы в периодической и патентной литературе, в тезисах докладов различных конференций и симпозиумов, выпущенных малыми тиражами) по многим вопросам отсутствуют необходимые обобщения и рекомендации. Так, нет подробного анализа существующих конструкций плазмотронов и их характеристик. Нет систематизированных сведений о практическом применении высокочастотной плазмы и электродуговой плазмы переменного тока и их эффективности по сравнению с плазмой постоянного тока. Слабо и бессистемно освещены различные способы ведения технологических процессов, особенно современных. Все это существенно сдерживает развитие и применение электроплазменных процессов в народном хозяйстве. [c.3]

Высокочастотные электроплазменные установки, в отлнчие от дуговых, еще находятся в стадии начального развития. Существующие ВЧ-установки не обеспечивают высокого к. п. д., а целесообразность использования ВЧ-плазмы в технологических процессах установлена пока в ограниченно.м числе случаев. [c.174]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...