Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Контраст для тонких образцов

Контраст для тонких образцов  [c.292]

При съемке на просвет с помощью ПЭМ можно исследовать очень тонкие объекты (10 —10 мм). При съемках на отражение глубина проникновения составляет 3,0—20,0 нм, что даст возможность исследовать чрезвычайно тонкие пленки (например, оксидные) на поверхности металлов. Разрешение, контраст п достоверность исследований в значительной мере определяются правильностью приготовления образцов методом реплик, несущих характерные особенности исходных материалов.  [c.495]


Дифракционный предел МР-микроскопии, определяемый длиной волны, составляет единицы—десятки нанометров. Конечно, это намного ниже возможностей электронной микроскопии. Однако в электронной микроскопии для получения необходимого контраста образцы фиксируют, высушивают, напыляют на их поверхность тонкую металлическую пленку или вводят в их состав контрастирующие вещества. В результате этих операций увеличивается вероятность появления артефактов. В противоположность этому МР-микроскопия, занимая по пространственному разрешению промежуточное положение между оптической и электронной, позволяет изучать сравнительно толстые живые образцы тканей и организмы.  [c.4]

Реплики — это тонкие, прозрачные для электронов пленки (например, угольные), наносимые на поверхность образца и очень точно копирующие ее рельеф. При просвечивании пучком электронов разные участки реплики, отличающиеся по толщине, дают разный контраст на изображении, благодаря чему можно наблюдать линии скольжения  [c.46]

Оттенение иногда вызывает появление ложных структур. На очень тонких репликах дополнительный контраст изображения может быть обусловлен структурой осажденного металла и неровностями реплики, вызванными напряжениями на свободной поверхности пластмассовой пленки. Кроме того, иногда мелкие детали изображения отражают строение материала реплики, а не собственную структуру образца. Необходимо также иметь в виду, что металлический слой загрязняется, например, окислами вольфрама из нагревательной спирали и что эти окислы в некоторых случаях влияют на оттененные слои.  [c.50]

В результате каждая горизонтальная строка растра превращается в волнистую линию, совокупность которых образует изображение. На экране ЭЛТ получается осцнллографнческая запись яркостного сигнала по ширине исследуемой области образца. При работе в этом режиме могут быть обнаружены тонкие различия в яркости участков, недостаточно выявляемые при работе в других режимах, а контраст изображений объектов со слаборазвитым рельефом повышается.  [c.68]

Для получения картины кристаллического строения электролитического осадка на его поверхность осаждают также электролитическим способом тонкий слой (50—100 А) никеля, который имеет кристаллическую структуру, ориентированную в соответствии с кристаллографической структурой образца. После растворения образца в соответствующем растворителе отпечатки отделяют и исследуют в электронном микроскопе. Вследствие кристаллической структуры никелевого отпечатка электронномикроскопическая картина обладает дополнительным контрастом, вызванным брэгговским отражением от сетчатых поверхностей. На фиг. XV приводятся микрофотографии, полученные описанным способом с помощью электролитических никелевых отпечатков, осажденных на поверхности меди, которые исследовались в темном и светло.м поле. Отделение отпечатков производилось растворением медного слоя в оастворе хромовой кислоты.  [c.72]


Описанному методу—оттене-нию отделенного от образца отпечатка, смонтированного на сетке, присущ целый ряд недостатков опасность коробления или даже полного сворачивания тонкого лакового отпечатка при нагревании его за счет излучения испарителя при испарении металла необходимость помещать отпечаток контактной стороной вверх, чтобы случайно не напылить металл на противоположную сторону отпечатка, в результате чего, естественно, никакого контраста не возникает..  [c.103]

Как было выяснено, контраст при оттенении электронномикроскопического препарата обусловливается либо различной толщиной осал<денного металла на различных участках препарата — как в случае оттенения отпечатков, либо наличием и отсутствием металлической пленки — как в случае оттенения объектов прямого исследования, нанесенных на пленку-подложку. Чем большей рассеивающей способностью будет обладать тонкий сконденсировавшийся слой металла, оттеняющего препарат, тем более заметные изменения яркости изображения вызовут небольшие изменения толщины напыленного слоя, обусловленные различным наклоном элементов рельефа образца или экранирующим действием частиц объекта, т. е. тем большим будет контраст изображения.  [c.110]

Рассмотрим пять основных и три дополнительные группы шрифтов (рис. 17). В шрифтах первой группы (рис. 17, а) контрастность дополнительного и основного штрихов не сильна (1 3) переход от засечек к штриху плавен, а сами засечки имеют форму, близкую к треугольнику. В дополнительной группе (рис. 17, б) сохраняется округлая плавность перехода к треугольным засечкам, но уже сильна контрастность между основным и дополнительным штрихами (1 4 или даже 1 5). Шрифты второй группы (рис. 17, в) — с сильной контрастностью (1 5 и более) и резким прямоугольным переходом от штриха к тонким засечкам. Шрифты третьей группы (рис. 17, г) малоконтрастны (1 2), а переход от штриха к засечкам у них плавный, как в штрихах первой группы, однако сами засечки в них толсты, близки к прямоугольникам. Эти шрифты — сравнительно недавнего происхождения наиболее устойчивые их образцы относятся к началу XX в. Шрифты четвертой группы (рис. 17, д) почти неконтрастны или вовсе неконтрастны (1 1), а засечки у них прямоугольные, широкие и переходят в штрих под прямым углом. Дополнительные шрифты (рис. 17, е) этой группы — со слабым контрастом между основным и дополнительным штрихами. Для них особенно характерна неотчетливая выраженность засечек, представляющих собой как бы слабое расширение на конце стойки. Шрифты пятой группы (рис. 17, ж) — рубленые — не имеют засечек, а основной штрих по толщине равен дополнительному (1 1). Дополнительные шрифты этой группы (рис. 17, з) вовсе лишены засечек и могут быть с различной контрастностью.  [c.32]

Для получения максимального контраста от тонких биологических образцов в течение многих лет практиковалась недофокуси-  [c.293]


Смотреть страницы где упоминается термин Контраст для тонких образцов : [c.153]    [c.150]    [c.115]    [c.499]   
Смотреть главы в:

Физика дифракции  -> Контраст для тонких образцов



ПОИСК



Образцов



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте