Проективные шкалы

Проективная шкала функции f(x) есть шкала функции [c.315]

Проективные шкалы 314 Проектирование кулачковых механизмов 541 [c.582]

Проективная шкала или просто проективная шкала- — шкала функции [c.314]

На параллельных прямых (фиг, 12) строим логарифмические шкалы, на секущей прямой — просто проективную шкалу для а. [c.320]

При трех парах значений (а, г) эта шкала всегда может быть получена из правильного деления (reg я) посредством центральной проекции (проективные ряды точек в перспективе). Проективные шкалы отличаются [c.186]

Аналитически проективное искажение выражается умножением указанного в п. 5 детерминанта на а. Детерминант а обладает 8 степенями свободы, так что из каждой таблицы можно получить со проективных изображений, причем всегда получаются проективные шкалы. Применение проективных искажений является превосходным средством для получения гибких таблиц. [c.189]

Теплосодержание 2—173 Проективные шкалы I — 314 Проектирование подшипниковых узлов [c.460]

Наряду с функциональными шкалами при построении номограмм используют проективные шкалы. Их строят следующим образом. [c.10]

Рис. 7. Схемы построения проективных шкал

Действительно, если шкала I равномерная (рис. 1,6), то на проективной шкале II графические интервалы между пометками сс, с,,. .., Сп неодинаковы и подчиняются закону распределения некоторой функции, т. е. шкала II получается неравномерная. [c.11]

В практической номографии чаще всего используют проективные шкалы, построенные на прямой, параллельной исходной шкале. В этом случае функциональный закон изменения графических интервалов на проективной шкале такой же, как и на исходной. Следовательно, проективная и исходная шкала отличаются только графическими интервалами, т. е. модулями 1 и Яи. [c.11]

Если фокус О отстоит от исходной шкалы / на расстоянии Я, проективная параллельная шкала II на расстоянии /г (рис. 7,в), то длина проективной шкалы II на основании подобия треугольников [c.11]

Согласно формуле (6) модуль проективной шкалы зависит от отношения а, которое играет роль масштабного постоянного множителя. Таким образом, использование проективной параллельной шкалы позволяет построить простейшую номограмму для выполнения операции умножения или деления данных пометок исходной шкалы I на постоянное значение а. [c.12]

Отношение а может принимать значения больше или меньше единицы. Если а<1, проективная шкала II расположена между исходной шкалой и фокусом (см. рис. 7). В этом случае на основании отношения (6) модуль проективной шкалы 1п<Я1, т. е. осуществляется операция деления, если считать, что исходным данным соответствует шкала I, искомым — шкала II. [c.12]

Если /г>Я, т. е. а>1, проективная шкала II расположена за исходной шкалой I по отношению к фокусу (рис. 8). В этом случае т. е. осуществляется операция умножения исходных данных шкалы / на постоянный множитель, в результате чега получается искомый результат на шкале II. [c.12]

Если необходимо выполнить умножение или деление данных, указанных на исходной шкале I, на постоянную величину так, чтобы искомые величины определялись на проективной шкале II по пометкам применяют реверсирование проективной шкалы (рис. 9). [c.12]

В связи с этим при нанесении штрихов и пометок на шкале а, рад, примем способ построения проективной шкалы по исходной шкале I, длина ко- торой /i = 100 мм и модуль [c.13]

Приняв произвольный штрих шкалы Ь, например точку Е, в качестве фокуса, на фокальном расстоянии Нъ проведем линию, параллельную исходным шкалам, и построим на ней шкалу а, проективную шкале а (см. рис. 14). [c.15]

Проведем аналогичные построения для шкалы Ь (рис. 15), т. е. в качестве фокуса О возьмем произвольный штрих на шкале а и построим параллельную шкалу Ь, проективную шкале Ь на фокусном расстоянии На. [c.15]

Рис. 14. Схема построения проективной шкалы а

Потребуем выполнения условия, при котором проективные шкалы а и Ь совпадают, т. е. получается общая шкала с (рис. 16) [c.16]

Из выражения (11) следует, что общая для шкал а и Ь проективная шкала с должна располагаться между шкалами на расстояниях ка И Нь, обратно пропорциональных модулям Ка и Кь исходных шкал. [c.16]

Таким образом, формулы (И) и (13) полностью определяют положение и масштаб общей проективной шкалы. [c.17]

Теперь выясним, в каком количественном соответствии находится общая проективная шкала с с исходными шкалами а и Ь. Проведем через крайние штрихи шкалы с две произвольные прямые АВ и Л В, до пересечения со шкалами а и Ь я определим отрезки ЛЛ] и ВВ (см. рис. 16). [c.17]

При изучении свойств проективных шкал был рассмотрен случай, когда фокус расположен между исходной и проективной шкалами (см. рис. 9). [c.18]

При принятых модулях %FJ. и %Р соответствующих шкал Рг я Р модуль 2-шкалы значений Ра/Рг получается очень мелким, что затрудняет пользование номограммой. В связи с этим на номограмме построена дополнительная проективная шкала значений Ра/Рт, которой соответствует фокальная точка 5. [c.24]

Длина этой проективной (также равномерной) шкалы [c.15]

Тогда соответствующая длина участка проективной равномерной шкалы Ъ [c.16]

Хс ка + Хь) I ХаХь) = 1-Следовательно, модуль общей проективной шкалы с [c.17]

Ль йп- Эту шкалу называют проективно-функциональной. Лю- ая шкала, построенная на прямой, не параллельной исходной шкале I, даже если шкала I равномерная, является проективнофункциональной. [c.11]

Рис. 8. Равномерная проективная Ряс. 9. Реверсивная равномерная прошкала при /г>Я ективная шкала

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...