Химическое осаждение из газовой определение

ХОГ. Химическое осаждение из газовых смесей осуществляется в реакторах при 700—1000 С, куда загружаются обрабатываемые детали. Через реактор с определенной скоростью продувается газовая смесь, которая, например, при осаждении нитрида титана может состоять из тетрахлорида титана, водорода и азота, а при осаждении оксида алюминия — из треххлористого алюминия, углекислого газа и водорода. Этим способом получают многослойные по- [c.497]

Химическая активность 91, 110 Химический потенциал 90—92, 100 Химическое осаждение из газовой фазы галоидный (Процесс определение 168 [c.362]

Разъедание материала при горячей коррозии происходит вследствие изменения типа химических реакций, протекающих между сплавом и окружающей газовой средой, под влиянием осажденного на поверхности этого сплава слоя соли. Характер изменения типа реакций в каждом конкретном случае во многом зависит от состояния осажденного слоя. Как правило, наиболее эффективным в смысле стимуляции коррозионного разъедания является жидкий осажденный слой (см. рис. 12.6), хотя это вовсе и не обязательно для проявления разъедания при горячей коррозии. Даже твердые осажденные слои с очень высокой плотностью могут вызывать заметные изменения химических потенциалов реагирующих веществ на границе раздела между сплавом и осажденным слоем по сравнению с их значениями в объеме газа [17] и, следовательно, стимулировать проявление вполне определенных механизмов коррозионного разъедания сплава. [c.63]

Вещества, используемые для химического осаждения, содержат компоненты, которые выделяются в результате термических реак- ций на поверхности субстрата и образуют покрытие. Процесс разбивается постадийно адсорбция- образование зародышей сформирование осадка. В отличие от физического осаждения (конденсации), когда образование зародышей усиливается с понижением температуры, химическое осаждение происходит, обычно, лишь пр повышенных или высоких температурах. При этом высокая концентрация реагентов может вызвать столь большое пересыщение, что образование зародышей будет происходить и в объеме газовой фазы. Частицы вещества, сформировавшиеся в газовой фазе, падают на подложку и включаются в нормально растущий осадок. Последний процесс часто нежелателен, так как приводит к образованию неоднородных и недостаточно плотных слоев, в особенности, если они имеют неметаллическую природу. Большое значение имеет степень нагрева поверхности. Плотные окисные покрытия получаются лишь в определенных температурных интервалах осаждения. Для АЬОз эта температура близка к 1000 °С, для ВеО — к 1400 °С и т. п. Благоприятным фактором является способность субстрата катализировать образование зародышей. А в общем же, следует всегда считаться с конкуренцией между заро-дышеобразованием на поверхности субстрата и в газовой фазе. [c.11]

Термохимическое осаждение обусловлено определенными химическими реакциями, в результате которых происходит избирательный массоперенос компонентов из газовой фазы на поверхность субстрата [4, 443]. Для синтеза покрытий наиболее подходящими оказыааются избранные группы соединений, легко переходящих в газообразное состояние (галогениды, карбонилы, гидриды, элементоорганические соединения). Реакции протекают с выделением в осадок компонентов, образующих покрытие. Оптимальные температуры для каждой конкретной реакции подбираются экспери- [c.43]

Радикальным путем получения тугоплавких карбидов, нитридов и тому подобных соединений с плотностью, близкой к идеальной, является метод химического синтеза на поверхности осаждения из компонентов газовой фазы. Процесс проходит на атомномолекулярном уровне, что и обеспечивает расчетную плотность осаждаемого соединения. Однако установлено, что качественные в отношении герметичности покрытия можно получить в определенном интервале температур и парциальных давлений газовых компонентов. Существуют области критических температур и давлений, в которых сплошности покрытия практически достигнуть невозможно. [c.116]

Для нанесения тонких карбидных, нитридных и боридных покрытий обычно используется осаждение из газовой фазы. Для нанесения металлических покрытий чаще применяют электролитиче-.ский и химический методы осаждения, особенно при использовании волокон, имеющих определенную химическую активность при по-ьышенных температурах. [c.147]

Для определения количества электричества, прошедшего через электролизер при окислении или восстановлении анализируемого вещества, применяются как электронные системы (интеграторы, логарифмические и специальные двухкоординатные самописцы), так и электрохимические кулонометры электрогравиметрические (медные, серебряные, галогено-серебряные) газовые колориметрические титрационные кулонометрические. Кулонометры первого типа основаны на принципе взвешивания катода после осаждения на нем слоя металла. В кулонометрах второго типа измеряется объем образующегося при электролизе газа. Приборы третьего типа основаны на измерении оптической плотности раствора, изменяющейся в ходе электролиза. В кулонометрах четвертого типа образующиеся при электролизе растворимые продукты титруют стандартными растворами. Анодное и катодное пространства в таких приборах разделяются пористыми мембранами во избежание нежелательных химических реакций. При работе с кулонометрами пятого типа сначала производят катодное осаждение металла из концентрированного раствора его соли, а затем, растворяя анодно металл в галь-ваностагичееком режиме, измеряют время процесса (до [c.285]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...