Фазовый контраст при дефокусировке

Контраст при дефокусировке является фазовым контрастом в самой общей форме особенно это касается электронной микроскопии. Хорошо известен экспериментальный факт, состоящий в том, что контраст минимален вблизи точного фокуса. Он возникает при дефокусировке и обращается (меняет знак) при прохождении через фокус. [c.71]

Для несфокусированных изображений изменения фаз, вызванные сферической аберрацией, либо увеличивают, либо уменьшают фазовые сдвиги от дефокусировки в зависимости от направления дефокусировки и либо способствуют, либо затрудняют получение фазового контраста изображения. Такое рассмотрение очень важно для электронной микроскопии тонких объектов более подробно мы его обсудим в гл. 13. [c.73]

Функция прохождения (13.6) выбрана в приближении фазового объекта, и, как было показано в гл. 3, контраст изображения можно создавать, используя дефокусировку, апертурные ограничения, аберрации линзы или применяя специальные методы, такие, как фазовый контраст Цернике. Метод Цернике и схожие с ним методы были успешно использованы в электронной микроскопии (см. [377 ]), но все же наиболее широко применяемые и общ,ие методы включают дефокусировку. [c.293]

Таким образом, контраст зависит от второй производной фазовой функции ф(дг) он обращается при изменении знака дефокусировки Л. [c.72]

Если линза точно сфокусирована, то изменения фазы, связанные с этими членами более высоких порядков относительно и, останутся и обеспечат некоторый амплитудный контраст. Эти фазовые сдвиги даже в большей степени, чем для членов второго порядка дефокусировки, будут малыми для малых и, однако они будут быстро возрастать для больших и, так что в контраст изображения наибольший вклад будет давать внешняя часть дифракционной картины. Следовательно, можно ожидать флуктуаций контраста при быстрых изменениях ф(х). [c.73]

Однако известны некоторые экспериментальные исследования, проведенные на более толстых кристаллах оксидов, когда использование одного только приближения фазовой решетки оказывалось явно недостаточным. В некоторых случаях, когда хорошее изображение типа амплитудного объекта получали при оптимальной дефокусировке для тонких областей кристалла (до 150 А), ориентированного таким образом, чтобы пучок был почти параллелен оси кристалла, изображение с хорошим амплитудным контрастом наблюдали также для толщин в интервале 700—1000 А, но не для толщин от 150 до 700 А [132]. Именно в такой области высоких толщин кристалла была получена фиг. 13.5. [c.306]

Таким образом, для небольшого интервала значений недофо-кусировки А будет иметь место оптимальный вклад от всех амплитуд рассматриваемых дифрагированных пучков, а интенсивность изображения будет составлять приблизительно 1—2(т<р(х, у). Из выражения (3.28) видно, что этот случай подобен случаю идеального фазового контраста Цернике. Оптимальное расстояние дефокусировки мы получим при подстановке йх/(1и =0 для х, приблизительно равного —2я/3 оно составляет [c.298]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...