Пульсации псевдоожиженного сло высокотемпературного

Следует особо подчеркнуть, что для правильного и однозначного ответа на вопрос, произойдет ли усиление или ослабление пульсаций с повышением температуры слоя, необходимо обязательно оговаривать условия сопоставления. Например, если сопоставлять поведение низкотемпературного и высокотемпературного слоев не при одинаковой массовой скорости фильтрации, как было сделано в [Л. 116], а при поддержании одинакового числа псевдоожижения (т. е. уменьшая Оф с повышением температуры), то отмеченного выше усиления пульсаций с температурой не будет даже в отсутствие горения. [c.39]

Тенденция к успокоению пульсаций слоя с повышением его температуры при поддержании прежнего числа псевдоожижения верхней его части снижением Оф будет создаваться сопутствующим этому уменьшением скорости истечения струй, выходящих из отверстий газораспределительного устройства. При подаче холодных газов, например воздуха, в газораспределительное устройство под высокотемпературным псевдоожиженным слоем температура струй на выходе из решетки может быть значительно ниже температуры слоя. Из-за подобной неизотермичности условия псевдоожижения в непосредственной близости от решетки будут при постоянном сечении слоя иными (число псевдоожижения ниже), чем в верхней части слоя. [c.39]

По оси струи на расстоянии менее 38 мм от места входа ее в слой отмечались пульсации температуры (равные примерно 100° С), особенно заметные, когда подводимая мощность превышала 1 кет. Видимо, из-за эжекции частиц струей плазмы происходили быстрое нарастание двухфазного (среда — частицы) пограничного слоя струи, смыкание ее газового факела и периодические отрывы его с образованием пузырей аналогично появлению пузырей при распространении в псевдоожи-женном слое турбулентных низкотемпературных газовых струй, наблюдавшемуся автором [Л. 350]. Уже поэтому закономерна пульсация температуры по оси струи — в зоне образования и движения пузырей. Следует отметить, что для восходящей высокотемпературной струи в более холодном псевдоожиженном слое эффект эжекции частиц может быть сильнее, чем в изотермическом слое, из-за быстрого уменьшения удельного объема плазменного газа при охлаждении. Это, видимо, позволяет интенсивно эжектировать даже тонкодисперсные частицы, которые в изотермическом слое увлекаются слабо. Улучшение условий эжекции подтверждаются измерениями авторов (Л. 472], показавшими, что давление в плазменной струе ниже входа ее в псевдоожи-женный слой значительно меньше статического давления в слое на уровне решетки, а также самим фактом очень быстрого охлаждения плазменной струи в псевдоожиженном слое, связанным, по нашему мнению, в первую очередь с увеличением большого количества тонко-дисперсных частиц, а не с радиационным обменом, которому сами авторы 1[Л. 472] отводят несколько преувеличенную роль, считая, что им обусловлена главная часть теплообмена струи в поперечном направлении . Во всяком случае в середине проводившегося процесса глубокого охлаждения струи с 6 000 до 80—100° С, когда температура тонкой, имевшей малую оптическую толщину струи была уже в пределах 1000—1500° С, не приходилось ожидать существенной теплоотдачи радиацией непосредственно от струи газа, тем не менее и эта [c.63]

Первый способ не имеет пока больших перспектив для создания высокотемпературных псевдоожиженных систем из-за сравнительно невысоких температур (1000—1 100°С), которые в состоянии длительно выдерживать электронагреватели из жаростойких сплавов при знакопеременных механических нагрузках от пульсаций слоя. Нагреватели же типа силитовых стержней отличаются еще большей хрупкостью. Наружный электрообогрев псевдоожиженного слоя через стенки от неподвижного слоя электропроводных частиц (например, криптола), сквозь который пропускается ток, может быть полезен только в сравнительно небольших установках, где не требуется подводить большие количества 11 163 [c.163]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...