Термическая диссоциация галогенидов

В реакционной камере происходит термическая диссоциация галогенида металла с выделением металла, последний взаимодействует с поверхностью графитовых частиц и с углеродом газовой фазы с образованием карбида. [c.140]

Термическая диссоциация галогенидов [c.481]

Термическая диссоциация галогенидов. Помимо получения металлов путем восстановления их галогенидов, представляющих собой очень удобные исходные вещества благодаря достижимости высокой степени ч стоты, сравнительной простоте процесса восстановления и характерным для них относительно низким температурам плавления и кипения существует способ термического разложения мно их галогенидов металлов, в результате которого металлы выделяются в чистом виде Так, иодиды титана, га]>ния, хрома, циркопня, ван дня, тория и урана разла аются при соприкосновении с на-1ретии поверхностью, например накаленной вольфрамовой проволоко , в эвакуированном контейнере, что ведет к осажден ю на ней компактного металла очень высокой степени чис оты С технологической точки зрения иодид ый процесс должен рассматриваться скорее как метод очистки метал лов, чем как основной метод их пол чения, хотя Д1я некотор х чистых металлов он является почти единственным методом получения [c.22]

Известно довольно много галогенидов тория три хлорида, три бромида, три йодида и фторид (валентности тория в этих соединениях 4+, 3+ и 2+). Хлориды и фторид бесцветны, бромиды и йодиды желтого цвета. Безводный тетрахлорид очень гигроскопичен. Для практики наиболее важны фторид ТЬР4 ИЙ0ДИДТЫ4. Первый используют для получения тория электролизом и для расплавления его в азотной кислоте чистый торий в чистой НКОз не растворяется, необходима добавка фторида. Тетрайодид же используют для получения тория высокой чистоты, поскольку при температуре выше 90°С это соединение способно к термической диссоциации ТЫ -> Th-f 212- [c.66]

Так называемый метод кипящего слоя широко применяется в химической технологии для осуществления реакции между газами и твердыми материалами. Сущность его заключается в том, что твердый измельченный реагент загружают в специальный обогреваемый реактор, через который снизу вдувают необходимые для реакции газы. Скорость подачи газа, конструкцию форсунки и самого реактора подбирают так, чтобы слой порошка находился во взвешенном псевдоожиженном, кипящем состоянии. Для нанесения покрытий на частицы методом термической диссоциации разлагающийся газ (пары галогенидов металлов или углеводороды для пироуглеродных покрытий) используют не в чистом виде, а в смеси с инертным газом-носителем, чаще всего аргоном или гелием. [c.241]

Процесс получения покрытий тугоплавких карбидов циркония, ниобия и др. термическим разложением их галогенидов на раскаленной нити в вакууме был описан в 1934 г. Ван Аркелем [1]. Пауэл, Кэмпбелл и Гонсер в 1948 г. опубликовали работу, посвященную получению ниобия диссоциацией его галогенидов [2], в [3, 4] описан процесс нанесения покрытий на различные под-лоя ки, в том числе и на графитовую. [c.125]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...