Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Высокотемпературный режим зажигания

Высокотемпературный режим зажигания 295 Вязкое взаимодействие 331  [c.458]

При температуре нагретой поверхности Го, близкой к адиабатической температуре горения Гр, реализуется так называемый вырожденный [3] или высокотемпературный режим зажигания. Основные закономерности этого процесса в рамках твердофазной модели зажигания исследованы в работе [3].  [c.182]

Числовые расчеты показали, что существуют низкотемпературный индукционный) и высокотемпературный режимы зажигания реагента частицей. Первый режим реализуется при 0ОН = 0, Т = 7 он< Т-с, где — адиабатная температура горения, а второй режим — при Тон > >Тг.  [c.295]


Если температура поверхности значительно превышает адиабатную температуру горения (2> 1,7), то реализуется режим высокотемпературного зажигания реагента, при котором картина выхода на режим стационарного горения существенно отличается от описанной выше. В качестве характерной температуры здесь удобно принимать температуру горения Гг, в результате чего безразмерный параметр у = 1/0Н. На рис. 6.10.3 дана пространственно-временная характеристика процесса при 0 = 5 у = 0,2 0 , — 5 (5 = 0,1 о = 0,5 к = 0,6. Из анализа этого рисунка следует, что в противоположность низкотемпературному режиму при высокотемпературном режиме время образования нестационарного фронта пламени (время задержки зажигания) весьма мало и полное время переходного процесса практически совпадает с временем нестационарного горения. Максимум температуры в силу того, что Гц, > Т , не появляется и наибольшей температурой во все время процесса остается температура нагретой поверхности, в результа-  [c.325]

Если начальная температура тела Гон Гг, то реализуется режим высокотемпературного (вырожденного) зажигания (соиряженного теплообмена). В этом случае в окрестности нагретого тела довольно быстро образуется очаг полностью сгоревшего реагента. Динамика измепепия температуры при 171 = 2, бон = 5, 0н = 0,6, Яер = 0,001, у = 1/0Н, Р == 0,15, V = 1, Хо = 2,5 дапа па рпс. 44 (/ — т = 120, 2 — 840, 3 — 2500). Динамика изменения глубины нревраш,епия для того же случая представлена па рис. 45.  [c.231]

Таким образом, для высокотемпературного зажигания реагента шаром нри 10 —10 установлено, что условие воспламенения (6.2.6) пе удовлетворяется и единственным критерием воспламенения является выход па режим гореипя [18].  [c.231]


Физическая газодинамика реагирующих сред (1985) -- [ c.295 ]



ПОИСК



Высокотемпературная ТЦО

Высокотемпературный режим

Зажигание

Режим зажигания



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте