Приближение локальное индукционное

В (2.4) на основе локального индукционного приближения выведено уравнение [c.268]

Локальное индукционное приближение [c.309]

В рамках локального индукционного приближения (см. п. 2.4) пренебрежем вкладом нелокальной индукции Q и изменением параметра усечения С а вдоль вихревой нити. Перепишем (5.115) в виде [c.309]

Однако для количественных оценок скорости формула (5.1) (и тем более (5.2), где под знаком югарифма стоит размерная величина) не годится. Причина этого лежит в неопределенности задания предела интегрирования L, а также эффективного радиуса вихря а. В рамках локального индукционного приближения указанная проблема разрешается на основе так называемого метода усечения ( ut-off method ). Суть его заключается в том, что в формуле Био - Савара при интегрировании по контуру нити исключается участок нити длиной С по обе стороны от рассматриваемой точки [c.247]

Как уже упоминалось, для мениска характерны возмущения поверхности в виде вертикальных рифов. Для устранения возмущений такого типа необходимо наличие магнитного поля, силовые линии которого были бы направлены вдоль периметра сечения расплава в горизонтальной плоскости, причем жесткость этого поля должна обеспечиваться присутствием малопрозрачной для поля (т.е. хорошо проводящей ток) поверхности, максимально приближенной к расплаву. Такая поверхность в индукционной печи всегда присутствует. Ею является индуктор, а в ИПХТ-М также и холодный тигель. Наведение же азимутально ориентированного магнитного поля является дополнительной задачей. Она решается наиболее просто при наличии в индукционной печи верхнего источника нагрева [8], связанного с перетеканием на вершину расплава значительных токов (например, электродугового) (рис. 12). При появлении рифа сечение азимутально направленного магнитного потока сужается и линейная плотность меридионально ориентированного тока на вершине рифа возрастает, что соответственно повышает локальную плотность сжимающих ЭМС, создаваемых этим током. Эффективность этого процесса, стабилизирующего поверхность, зависит от жесткости рассматриваемого азимутального поля, что, как явствует из рассмотренного ранее, зависит от расположения меридиональных проводников вокруг этого поля и частоты. [c.32]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...