Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

УФ-фотолизом

Для системы пленкообразователь — пигмент скорость фотолиза пленкообразователя Уф под действием монохроматического излучения в общем виде описывается уравнением  [c.48]

Определяющее значение для использования излучения с различной длиной волны имеют оптические окошки (включая стенки лампы), через которые излучение проходит от лампы до матрицы в криостате. Обычное стекло, почти не пропускающее в УФ-области, не применяется для фотолиза. Монокристаллы хлорида натрия и бромида калия пропускают излучение с длиной волны более 2О0 нм и представляют собой доступные материалы для окошек, но они быстро мутнеют во влажной атмосфере и слишком непрочны механически для использования в качестве стенок ламп.  [c.73]


Принципиальная схема эксперимента по фотолизу матрицы довольно проста (рис. 4.5). В тепловом экране, окружающем матрицу в криостате, предусматривается специальное отверстие, а в вакуумном кожухе - окошко для фотолиза. Источник УФ-света устанавливают так, чтобы излучение попадало на матрицу через это окошко и отверстие. Если направить УФ-излучение под углом к оптической оси, на которой располагается охлаждаемое окошко с матрицей (рис. 4.6), то в ходе фотолиза появляется возможность непрерывно следить по спектру за исчезновением полос исходного вещества и увеличением интенсивности полос, принадлежащих продуктам.  [c.74]

Молекула С2 получена фотолизом (с использованием УФ-излучения и рентгеновских лучей) молекул ацетилена или метана, изолированных в матрицах менее вероятно, то ее можно обнаружить при стабилизации в матрице паров графита. Хотя основным состоянием этой молекулы является синглет 15 , низколежащее триплетное состояние (ЗПg) приводит к возникновению известных полос Свана, обнаруженных в спектрах комет и углеводородных пламен. В ранних работах предполагалось существование в матрице обоих состояний молекулы С2. Однако позднее было показано, что полосы, отнесенные к переходам из состояния молекулы С2, в действительности принадлежат иону С - образующемуся в матрице за счет присоединения фотоэлектрона. Таким образом, в спектрах поглощения наблюдаются только переходы из основного состояния молекулы С2, хотя полосы Свана в спектрах испускания С 2 все же могут быть замечены при облучении ацетилена, изолированного в матрице, рентгеновскими лучами. Частица С была одним из первых ионов, идентифицированных в матрице. При фотолизе ацетилена образуются и другие ионы, если в матрице, присутствуют источники фотоэлектронов, такие, как цезий и триметиламин, имеющие низкие потенциалы ионизации. При облучении матриц, содержащих С , светом с длиной волны 200-280 нм (л/5 эВ) полосы поглощения С исчезают, что согласуется с предпо-  [c.125]

Молекула SH, образующаяся при фотолизе HgS в матрице аргона, изучена довольно мало. Известно, что частота колебаний в ИК-спектре смещена на 50 см 1 относительно газовой фазы (ср. выше для ОН). Некоторые переходы наблюдались в УФ-области, но полученные данные ограничены.  [c.134]

Для УФ-фотолиза обычно используют излучение с энергией не выше 6 эВ ( J 50ООО см 1 или 600 кДж/мо ш), в то время как потенциалы ионизации большинства молекул более высокие. Следовательно, образование ионов в таких условиях маловероятно. Только излучение водородной лампы при 121,6 нм(а-линия серии Лаймена) позволяет легко получать ионы, так как его энергия (-10 эВ) достаточно велика для ионизации даже многих стабильных молекул, в то время как активные частицы обычно имеют более низкие потенциалы ионизации из-за наличия электронш на слабо связывающих орбиталях.  [c.85]


Меньшая реакционная способность частиц 31Н2 и СеНз по сравнению с метиленом, возможно, связана с их синглетным основным состоянием (СН2 имеет триплетное основное состояние). Эти частицы, образующиеся при УФ-фотолизе 8Ш или СеН , идентифицированы в ИК-спектрах при помощи метода изотопного замацения.  [c.135]

Дигидриды элементов V группы. Молекула является "классической" активной частицей, исследованной одной из первых (в 1958 г.) в матрицах инертных газов. Изучены ИК-, ЭПР- и электронные (УФ- и видимая область) спектры этой частицы, которую получают несколькими способами в разряде—> ННз), фотолизом в матрице (ННз- ННз + Н), а также реакциями атомов, образующихся при фотолизе исходного вещества в матрице N11 + N3  [c.135]

Водяной пар. В видимой, ближней УФ- и ИК-областях спектра молекулы воды поглощают на составных и комбинационных переходах, что не приводит к появлению флуоресценции. При поглощении излучения с X < 242 нм отмечается ф уоресценция продуктов фотолиза Н2О, в первую очередь ОН и О [13].  [c.153]


Смотреть страницы где упоминается термин УФ-фотолизом : [c.135]    [c.169]    [c.125]    [c.224]    [c.309]    [c.130]    [c.136]   
Матричная изоляция (1978) -- [ c.8 , c.73 , c.170 ]



ПОИСК





© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте