Приготовление оксидных суспензий

ПРИГОТОВЛЕНИЕ ОКСИДНЫХ СУСПЕНЗИЙ [c.260]

В настоящее время покрытия, полученные из суспензий оксидных наполнителей в золе, находят применение в качестве электрической изоляции гибких проводников и антистатических покрытий. Так как образование стекла происходит в объеме спека, то формированию стеклофазы часто препятствует взаимодействие наполнителя с компонентами выделенного из золя твердого остатка. Выявить вероятность такого взаимодействия позволяет исследование композиций оксид—золь, взятых в соотношении 1 1 в пересчете иа сухой остаток. Нами исследованы спеки, приготовленные из указанных в табл. 1 [c.135]

Для придания оксидным суспензиям устойчивости вводят чаще всего кислоты, особенно НС1, не оставляющую после обжига минерального остатка. НС1 образует на поверхности окисных частиц оксихлориды, которые и являются стабилизаторами. Приготовление литейных шликеров из оксидных материалов чаще всего является продолжением процесса отмывки от железа молотых в стальной мельнице оксидных порошков. Отмытую от примесей железа суспензию доводят до требуемой влажности- (30—35%) и кислотности путем добавления чистой Н2О и НС1. Для придания необходимой механической прочности отлитым и высушенным изделиям в суспензию рекомендуется вводить до 5% органических клеящих добавок, например мочевиноформаль-дегидную смолу и др. [c.51]

На некоторых операциях, как заготовительных, таки сборочных, в цехах, где пыль, пары кислот, масел, продукты сгорания горючих газов и другие аэрозоли могут оказать вредное воздействие на детали, рекомендуется применять пылезащитные камеры. К таким операциям относятся процессы изготовления тела накала и катодов, приготовления Газопоглотителей, оксидных и люмниофорных суспензий, включая контроль и упаковку этих деталей, операции по сборке ножек, промывке колб, выжиганию биндеров и др. [c.465]

Поверхность. Состояние поверхности частиц УДП определяется газонасыщенностью и существенно влияет на развитие в расплаве суспензии следующих негатибных процессов жидкостная коалес-ценция неудовлетворительное смачивание частиц УДП при вакуумно-термической обработке, которая может проходить на стадии приготовления модифицирующей композиции. Кроме того требуется однородность частиц УДП по диаметру. Это предполагает отсутствие на поверхности частиц блокирующей оксидной пленки, обусловливающей необходимость эффективной пассивации УДП уже на стадии синтеза. [c.375]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...