Камеры высокотемпературные — Регулирование температуры температурах — Конструктивные

На установке для локального нагрева образцов диэлектриков и высокотемпературных полупроводниковых материалов в качестве источника лучистой энергии применялась мощная газоразрядная ксеноновая лампа сверхвысокого давления мощностью 6 кет, которая позволяла получить в рабочем пятне стабильную температуру порядка 2000° С в течение нескольких десятков часов. Конструктивное оформление установки обеспечивает бесконтактное измерение и позволяет производить регулирование температуры с погрешностью 5° С. Помещение образца в специальную кварцевую камеру позволяет вести нагрев в высокочистой и контролируемой среде. Иллюстраций 3. Библиография 10 назв. [c.496]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...