Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Электронная микроскопия вакуумная установка для напылени

Установка для получения напыленных пленок (фиг. 13) представляет собой вакуумный пост с колоколом, насосную группу, обеспечивающую давление под колоколом не выше 10— мм рт. ст., понижающего трансформатора, дающего на вторичной стороне ток, регулируемый от О до 50—70 а, и вакуумметра. Такая установка может быть легко изготовлена собственными силами. Очень удобные установки выпускаются нашей промышленностью (установки типа ВУП, УВР) и придаются обычно к электронным микроскопам.  [c.19]

Прежде всего необходимо тщательно промывать отпечатки после отделения их от полистирола, чтобы полностью удалить следы его с кварцевой пленки. В процессе испарения кварца необходимо следить, чтобы давление под колоколом вакуумной установки не превышало 10 мм рт. ст. При более высоком давлении накаленная вольфрамовая спираль начнет окисляться, и образующаяся окись вольфрама будет испаряться вместе с кварцем. Оса-ждаясь на поверхности полистиролового отпечатка, она может образовывать свою собственную структурную пленку. Будучи значительно тяжелее кварца, окись вольфрама даже в незначительных количествах проявляется на отпечатке, создавая заметное изображение в электронном микроскопе, которое может сильно исказить изображение структуры исследуемой поверхности или даже маскировать его. Не следует также впускать воздух под колокол вакуумной установки до полного охлаждения вольфрамовой спирали преждевременный впуск воздуха вызывает образование на поверхности испарителя окиси вольфрама, которая при последующем напылении кварца испаряется и осаждается на по-листироловом отпечатке. Поэтому целесообразно применять предварительный прогрев спирали до напыления кварца, используя заслонку, помещаемую между испарителем и образцом на время прогрева. Как было сказано выше, при испарении кварца из вольфрамовой спирали частично испаряется и вольфрам, что вызывает усиление контраста кварцевого отпечатка. Плохой вакуум при наличии вольфрама в кварцевой пленке приводит к образованию крупнозернистой структуры, выявляемой при больших увеличениях и искажающей действительную структуру исследуемого образца.  [c.77]



Металловедение и термическая обработка (1956) -- [ c.125 ]



ПОИСК



Микроскоп

Микроскоп электронный

Микроскопия

Микроскопия микроскопы

Микроскопия электронная

Напыление

Напыление вакуумное

Ф вакуумная



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте