Бензофенон

Смачиваемость 0 различных граней монокристалла тимола и бензофенона собственным расплавом [c.70]

Были измерены также нормальные скорости роста исследуемых граней при тех же переохлаждениях. Полученные экспериментальные данные по смачиваемости граней монокристаллов тимола и бензофенона и соответствующие им скорости роста (см. таблицу) показывают, что краевые углы для всех исследованных граней отличны от нуля, смачиваемость разных граней собственным расплавом различна. Обнаруживается корреляция между скоростями роста исследуемых граней и степенью смачиваемости. [c.70]

На рис. 9.9 видно, что увеличение содержания бензофенона в светочувствительном слое с 1 до 5 (масс.ч) способствует повышению светочувствительности фоторезиста, которая при дальнейшем увеличении его концентрации не растет. [c.638]

В настоящей работе изучалась смачиваемость собственным расплавом различных граней монокристаллов тимола и бензофенона. Эксперименты проводились в условиях оттекания жидкости с твердой поверхности. В качестве исследуемых веществ были выбраны тимол (3-окси-л-цимол) и бензофенон (дифенилкетон) как удобные для работы (прозрачность расплава, невысокая температура плавления — 49 и 47° С соответственно). Использовался тимол и бензофенон марки ч. д. а. [c.69]

Эксперимент проводили следующим образом выращивали монокристаллы тимола из расплава, имеющего температуру 48,6° С, т. е. на 0,4° С ниже температуры плавления, и монокристаллы бензофенона — при температуре 46,5° С (переохлаждение 0,5° С). В таких условиях данные кристаллы имеют полиэдрическую форму роста, образуя хорошо выраженные, зеркальногладкие грани (001), (111), (ПО) в случае тимола и (ПО), (111) — в случае бенво рдана [c.69]

О смачиваемости граней монокристаллов тимола и бензофенона собственным расплавом в процессе их роста. В. М. Перевертайло, Н. Ф. Григорен к о. Физическая химия конденсированных фаз, сверхтвердых материалов и их границ раздела. Наукова думка , К., 1975, с. 69—71. [c.224]

Изучена смачиваемость различных граней монокристалла тимола и бензофенона собственным расплавом. Краевые углы имеют отличные от нуля значения и различны для изученных граней. Установлена корреляция между скоростьк> роста данной грани и смачиваемостью ее собственным расплавом. Табл. 1, рис. 3, библиогр. 3. [c.224]

На основании анализа литературных данных было решено остано виться на фотоинициирующей системе, включающей бензофенон и ке тон Михлера. [c.635]

У бензофенона высокий квантовый выход, он надежен и прост в использовании, имеет сравнительно невысокую стоимость. Однако использование композиций на основе бензофенона ограничено обязательным применением кварцевых фотошаблонов, так как максимум чувствительности слоев находится в области 254 нм. Он применяется в сочетании с сенсибилизатором - 4,4 -бис-(диметиламино-)бензофеноном (кетоном Михлера), имеющим максимум поглощения в области 355 нм. Фотоинициирующая система на основе этих двух компонентов имеет сравнительно высокую эффективность за счет синергизма. [c.636]

В качестве фотоинициаторов для полиимидных фоторезистов использовали синергическую смесь бензофенона и кетона Михлера, так как они обладают высокой фотохимической активностью и неионогенны, в связи с чем не оказывают влияния на диэлектрические показатели покрытий. [c.638]

Однако использование бензофенона в качестве фотоинициатора даже в оптимальном количестве 5 % (масс.) не позволяет достигнуть требуемого уровня светочувствительности, который должен быть в 4—5 раз выше. Это объясняется тем, что бензофенон имеет = 254 нм, а в этой области имеют сильное поглощение как полиамидокислота, так и оптическое стекло. [c.638]

Вместе с тем, использование в качестве фотоинициатора кетона Михлера (4,4 -бис-(диметиламино-)-бензофенона) позволяет сместить максимум поглощения в область 355 нм. Из рис. 9.10 видно, что светочувстви- [c.638]

Рис. 9.11. Зависимость толщины сшитого слоя фоторезиста I от содержания кетона Михлера Q при постоянном содержании бензофенона - 5 (масс.ч) на 100 (масс.ч) ненасыщенной полиамидокисло-ты (время экспонирования 3 мин)

Для выбора фотоинициатора были проведены сравнительные испытания лаковых композиций с различными фотоинициаторами БКМ (бензофенон кетон Михлера - 2 1), тригонал, изопропиловый эфир бензоина, трет-бутиловый эфир бензоина. [c.648]

Точность и надежность этой установки проверялась на основании данных по измерению давления пара бензофенона, для которого эти измерения проведены в достаточно широком интервале температур цельгм рядом авторов. Этим методо м было определено давление паров большого числа летучих ингибиторов и его зависимость от температуры [56—58]. [c.185]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...