Ваки низких точек

В атмосфере водяных паров молибден склонен к образованию тонких поверхностных пленок окислов МоОг и МоОз уже при температуре около 250° С. Эти окислы можно без остатка восстановить путем отжига в водороде при 800° С они очень быстро испаряются также при откачке в высоком вакууме уже при тем1перагтурах 500° С. Однако окислы практически не разлагаются при отжиге в высоком вакууме даже при высоких температурах это подтверждается тем, что после испарения окислы конденсируются на холодных частях электронной лампы. Поэтому готовые молибденовые детали необходимо пере(д монтажом тщательно восстанавливать при температурах 800—1 OOQP С в чистом сухом водороде в течение 10—30 мин и по возможности укладывать затем в закрытые стеклянные сосуды. Абсорбции таза в сухом воздухе при комнатной температуре практически не происходит. Водород, абсорбированный молибденом в процессе отжига, легко удаляется при иизких температурах путем высокочастотного нагрева или электронной бомбардировки в ваку(уме во время откачки. С азотом при низких давлениях (около 0,01 мм рт. ст.) молибден до 2 400° С не реагирует [Л. 47] в противоположность этому он очень склонен к образованию карбидов. При нагревании молибдена в окиси углерода или в метане при 800° С образуется МогС в виде светло-серых кристаллов (точка плавления 2 300° С). Молибден очень интенсивно поглощает мышьяк. [c.67]

Атмосферное давление в любой точке зависит от высоты этой точки над уровнем моря и незначительно колеблется в одной и той же точке. Нормальное атмосферное давление на уровне моря при температуре 273 К принято равным 101,3 кПа и обозначается Различают абсолютное давление Рабс манометрическое (избыточное) и давление, более низкое, чем атмосферное, — вакуумное Рвак между которыми имеются следующие завиотмости = Рабс Рж Рвш Рат Рабе Р вак Рм [c.159]

Развитие конструкции пассивного экранирования привело к созданию многослойной экранно-вакуумной теплоизоляции (ЭВТИ). Эта изоляция представляет собой чередующиеся слои тонких металлических экранов с прокладочным материалом низкой теплопроводности и в настоящее время является наиболее эффективной и широко используется в технике низких температур. В качестве экранов обычно используется алюминиевая фольга толщиной 6—30 мкм, а прокладочным материалом служит стеклобумага, стеклоткань и т. д. Иногда используют алюминированные с одной или обеих сторон лавсановые или другие пленки. Если пленка алюмини-рована с обеих сторон, то прокладочный низкотеплопроводный материал используется обязательно. В случае применения пленки, алюминированной с одной стороны, использование прокладочного материала не обязательно. Многбслойная экранно-вакуумная изоляция, размещенная в вак мной полости сосуда, обладает чрезвычайно низким коэффициентом теплопроводности. [c.78]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...