Жидкофазная эпитаксия (ЖФЭ) вертикальная

Установка для жидкофазной эпитаксии (рис. 37) состоит из электрической печи, тигля с раствором-расплавом, устройства для вращения тигля, устройства для погружения подложек и устройства для вращения подложек в погруженном и вынутом положении. Подложка может занимать в растворе-расплаве или вертикальное (рис. 37, а) или горизонтальное (рис. 37, б) положение. На рис. 37, в показано наиболее благоприятное распределение изменения температуры ДТ в рабочем пространстве печи. Технологический процесс предусматривает четырехчасовую гомогенизацию при температуре 1300 °С и вращающемся тигле. Затем следует медленное, в течение часа, охлаждение раствора-расплава на 20—30 °С до температуры переохлаждения. Затем раствор-расплав выдерживается при этой температуре еще один час до начала погружения первого комплекта подложек (не больше 20 шт.). Перед погружением комплект подложек опускают к поверхности раствора-расплава для выравнивания температуры. Погружение подложек совмещают с их вращением в расплаве для увеличения степени однородности пленки. Процесс роста пленки занимает менее 10 мин. Подложки с наращенной пленкой вынимают из раствора-расплава и очищают от остатков центробежным способом, вращая с частотой до 1000 об/мин. [c.489]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...