Покрытия фотоокислительная деструкция

В атмосферных условиях основной причиной старения лакокрасочных покрытий является солнечная радиация, вызывающая протекание процессов фотоокислительной деструкции высокомолекулярных пленкообразователей. [c.95]

Наиболее интенсивному воздействию солнечного излучения подвергаются поверхностные слои покрытий, поэтому их разрушение обусловлено в основном процессом фотоокислительной деструкции, ускоряющейся при одновременном действии влаги [91]. [c.95]

Газотермическив способы, использующие порошковую технологию нанесения покрытий, имеют ряд существенных преимуществ перед остальными, однако прогресс в этой области сдерживается низким ассортиментом порошковых полимерных и особенно композиционных материалов специального назначения с повышенными химической стойкостью, адгезией, термо- и фотоокислительной деструкцией и т.п. [c.180]

Рассмотрены процессы фотоокислительной деструкции пленкообра-зователей основных типов, особенности фотоокислительной деструкции покрытчй, современные представления о процессах разруше 1Я пигментированных покрытий. Показано влияние оптических свойств на стойкость покрытий при световом старении. Описаны количественные закономерности влияния основных климатических факторов на светостойкость покрытий, методы определения и прогноэироваиия светостойкости покрытий и пути ее повышения. [c.2]

Одной из главных причин старения и разрушения лакокрасочных покрытий в атмосферных условиях явля-ется действие солнечного света, вызывающего инициирование процессов фотоокислительной деструкции. Наиболее интенсивному воздействию солнечного излучения подвергаются поверхностные слои, поэтому для лакокрасочных покрытий, имеющих значительную удельную поверхность, процессы фотоокислительной деструкции являются основной причиной их разрушения в атмосферных условиях. [c.4]

Значительная часть публикаций, посвященных светостойкости покрытий, носит описательный характер. В них лишь приводятся экспериментальные данные о разрушении покрытий в различных климатических условиях и аппаратах искусственной погоды или о структурных превращениях, протекающих в свободных пленках под действием светового излучения. Особенности же процессов фотоокислительной деструкции покрытий, обусловленные адгезионным взаимодействием с подложкой, приводящем к торможению релаксационных процессов и возникновению внутренних напряжений, в них не учитываются. [c.5]

ОСНОВНЫЕ ЗАКОНОМЕРНОСТИ ПРОЦЕССОВ ФОТООКИСЛИТЕЛЬНОЙ ДЕСТРУКЦИИ ПОКРЫТИЙ [c.7]

Разрушение покрытий, как и других полимерных материалов, при эксплуатации в атмосферных условиях обусловлено сложным комплексом реакций фотоокислительной деструкции, в инициировании которых важную роль играют поглощение солнечного излучения и окис--лительные процессы, протекающие под влиянием кислорода воздуха [1, с. 9—124 2, с. 9—58]. [c.7]

Влияние внутренних напряжений на процессы фотоокислительной деструкции покрытий рассмотрено на при- [c.42]

Исследования стойкости свободных пленок и покрытий БМК-5 к фотоокислительной деструкции проводили под лампой ДРТ-375 при интенсивности ультрафиолетового излучения 56 Бт/м и температурах 10 и 60°С, выше и ниже температуры стеклования БМК-5. [c.45]

Представляет интерес рассмотрение влияния напряжений на процессы фотоокислительной деструкции пигментированных покрытий [46]. Результаты исследования потерь блеска покрытий БМК-5, содержащих 10% (об.) диоксида титана рутильной модификации, сво- [c.55]

Таким образом, внутренние и дополнительно наложенные растягивающие напряжения вызывают ускорение процессов фотоокисления и разрушения пигментированных покрытий на основе пленкообразователей различной химической природы. Специфические особенности процессов фотоокислительной деструкции покрытий по сравнению со свободными пленками обусловлены влиянием внутренних напряжений, возникающих в пленках, адгезионно-связанных с подложкой, на скорость процессов деструкции. [c.57]

Это приводит к тому, что разрушение покрытий под действием светового излучения начинается с изменения поверхностных слоев, а фотоокислительной деструкции подвергаются слои толщиной 10—15 мкм. [c.68]

На более глубоких стадиях старения состояние поверхности покрытий помимо интенсивности процессов фотоокислительной деструкции зависит от физико-химических дроцессов, протекающих в поверхностном слое. Под влиянием низкомолекулярных продуктов деструкции, образующихся при фотоокислении, облегчается пвотекание релаксационных процессов, что может способствовать выравниванию микрорельефа поверхности. Скорость протекания релаксационных процессов под воздействием жидких продуктов деструкции и по-вышелных температур зависит как от скорости их испарения, так и от изменения физико-механических свойств покрытий при старении. [c.89]

Линейная зависимость между потерей блеска и потерей массы на начальных стадиях разрушения дает возможность использовать потерю блеска для оценки стойкости покрытий к фотоокислительной деструкции. [c.91]

Это обусловлено тем, что поглощение светового излучения и соответственно инициирование фотоокислительной деструкции пигментированных покрытий БМК-5 происходит в слое толшиной около 10 мкм. [c.97]

Следовательно, значение квантового выхода характеризует стойкость пленкообразователей к фотоокислительной деструкции в пигментированных покрытиях. [c.108]

Повышение температуры приводит к значительному ускорению процессов фотоокислительной деструкции и разрушения покрытий [18 67, с. 17—31]. [c.111]

При термоокислительной деструкции С/о Для этих покрытий составляет 35 Дж/моль. Уменьшение Uq при фотоокислительной деструкции обусловлено тем, что энергия активации реакции инициирования близка к нулю [5, с. 46—47]. Аналогичные зависимости установлены также для меламиноалкидных и пентафталевых покрытий различных цветов [67, с. 17—31]. Для меламиноалкидных покрытий МЛ-12 Uo составляет 46, а для пентафталевых покрытий — 29,2 Дж/моль. При термоокислительной деструкции С/о Для покрытий МЛ-12 составляет 117, а для пентафталевых покрытий— 56 Дж/моль. [c.113]

Эти величины дают количественную характеристику стойкости пленкообразователя в пигментированных покрытиях к фотоокислительной деструкции. При этом [c.133]

Совпадение фд ,. для покрытий на основе одного и того же пленкообразователя, но с различным составом пигментной части, свидетельствует о том, что пигменты, входящие в состав покрытий, практически одинаково влияют на стойкость поверхностных слоев пленкообразующего к фотоокислительной деструкции. [c.134]

Для покрытий цвета коррида различных рецептур в УФ-области спектра наблюдается существенное различие значений Фда,., свидетельствующее о разном влиянии пигментов на стойкость пленкообразователя к фотоокислительной деструкции. [c.134]

Стойкость блеска покрытий зависит не только от стойкости пленкообразователя к фотоокислительной деструкции, но также от толщины его слоя на поверхности частиц пигментов. [c.135]

Очевидно, повышение блеска покрытий, а также его стойкости при старении может быть достигнуто при нанесении на поверхность покрытия слоя эмали, значительно разбавленной пленкообразователем, или. слоя лака. При этом поверхностный слой лака должен быть прозрачным, бесцветным и иметь высокую стойкость к фотоокислительной деструкции. Этот прием был использован для повышения светостойкости покрытий с металлическим эффектом [93]. [c.136]

Для пигментированных лакокрасочных покрытий в качестве такого критерия может быть выбрана стойкость их блеска, по изменению которого можно судить о. стойкости пленкообразователя к фотоокислительной деструкции, [c.138]

Учитывая особенности процессов фотоокислительной деструкции в пигментированных покрытиях, вряд ли следует ожидать значительных эффектов от введения УФ- [c.140]

Исходя из особенностей процессов фотоокислительной деструкции лакокрасочных покрытий, представляло интерес исследовать влияние на их светостойкость высокоэффективных стабилизаторов нового типа, а именно пространственно-затрудненных пиперидинов и имино-ксильных (нитроксильных) радикалов, механизм светозащитного действия которых является чисто химическим [23, с. 317—331 39]. [c.141]

Алкидно-меламиновые покрытия 132, 133 Алкидные пленкообразователи 25, 37 сл 139, 140 стойкость к фотоокислительной деструкции 39, [c.186]

Фишера критерий 173, 174 Фотогидролиз 61, 117, 118 Фотоокислительная деструкция покрытий закономерности процесса [c.188]

Влияние солнечной или искусственной радиации на органические покрытия может проявляться как в ухудшении физико-механических свойств пленки, так и в изменении ее цвета. В случае пигментированых покрытий протекание этих процессов в значительной степени зависит от соотношения свойств пленкообразователей и пигментов, образующих данную покровную пленку. Так, например, фотоокислительная деструкция одной и той же пленкообразующей основы при одинаковых условиях облучения может быть усилена в присутствии цинкосодержащих пигментов и замедлена под влиянием алюминиевого пигмента [33]. Это объясняется тем, что цинк является сравнительно интенсивным сенсибилизатором фотохимической деструкции полимеров, в то время как алюминиевый пигмент, имеющий плоскочешуйчатую структуру, хорошо отражает наиболее активную ультрафиолетовую часть излучений. [c.78]

С целью выяснения механизма фотоокислительных процессов покрытий БМК-5 изучали состав газообразных продуктов деструкции, образующихся при фотоокислении в присутствии кислорода, содержащего изотоп 0 при непрерывном отводе летучих продуктов деструкции [17]. Было установлено, что основным газообразным продуктом деструкции, содержащим кислород, является диоксид углерода, причем после 3 ч фотоокислення на 100 звеньев смолы выделяется 5,8 моль СОг. [c.27]

По мнению ряда исследователей [22, 34], поверхность металла, на котором формируется покрытие, оказывает каталитическое действие на процессы фотоокислительной и термоокислительной деструкции. [c.47]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...