Штампование голограмм

Другой класс фоточувствительных материалов образуют фоторезисты, которые отображают информацию в виде рельефных картин. При освещении фоторезиста актиничным излучением в нем происходят химические изменения, приводящие к различной его растворимости для разных экспозиций. В зависимости от того, является ли обрабатываемый фоторезист негативным (или позитивным), проявитель с соответствующим растворителем способствует растворению либо неосвещенного, либо освещенного участка. Получающуюся картину поверхностного рельефа можно использовать для получения отражательных голограмм методом испарения металла, а также для копирования голограмм штампованием. В табл. 4 перечислены некоторые фоторезисты, выпускаемые промышленностью. Следует заметить, что в большинстве случаев толщина фоточувствительного слоя оказывается порядка микрометра. Существуют три типа процесса регистрации образование органической кислоты, поперечных фотосвязей (фотосшивок) или фотополимеризации мономера. Диапазон регистрируемых длин волн простирается от УФ-области спектра до 5000 А, причем для этого диапазона можно выбрать фоторезист, обладающий либо широкой, либо узкой полосой спектральной чувствительности. Для достижения предельного разрешения 250—1500 мм 1 необходима экспозиция около 10 Дж/см . [c.305]

Следует также рассмотреть способ штампования копий рельефнофазовых голограмм, поскольку нн один из способов копирования в больших масштабах не является столь экономичным, как этот. [c.412]

Должным образом записанную рельефно-фазовую голограмму можно размножить простым штампованием, аналогичным тому, который применяется для массового производства грампластинок. Исходная голограмма обычно записывается на положительно работающем фоторезисте типа Shipley AZ-1350. Фоторезист тонким слоем наносится на соответствующую подложку и экспонируется таким же образом, как и обычная голограмма. Для согласования со спектральной чувствительностью фоторезиста приходится использовать лазер, излучающий в диапазоне коротких длин волн, предпочтительнее в ультрафиолете. После экспонирования фоторезист проявляется травящим раствором. Сильно экспонированные участки вытравливаются совсем, при этом на слегка освещенных участках остаются поверхностные неровности. В результате получается рельефная картина с высоким разрешением, которая соответствует освещающей структуре интерференционных полос. [c.413]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...