База осевая поверхностная

Осевыми б а 3 а хг и являются оси отверстий бобышек. Осевая база определяет литейные размеры в плоскости, псрпепдику.ляриой к оси, а поверхностная база — вдоль оси (вид й). [c.92]

Третий — с электромагнитным формообразователем. Для обеспечения одинаковых тепловых условий в зоне выращивания каждого из прутков предусмотрен привод вращения пьедестала. Печь снабжена специальным индуктором с несколькими (по числу выращиваемых кристаллов) кольцевыми витками и расположенной над индуктором медной водоохлаждаемой щайбой, имеющей над каждым из витков индуктора отверстие, соосное с витком. Эта шайба играет роль системы короткозамкнутых витков, концентрирующих злектромагнит-ное поле под фронтом кристаллизации и ослабляющих его над этим фронтом. Тем самым повышается осевой температурный градиент в растущих кристаллах и увеличивается скорость кристаллизации. Формообразование одинаковых жидких столбиков расплава обеспечивается естественной симметрией ориентации сил поверхностного натяжения и симметричной радиальной направленностью ЭМС. Вращения выращиваемых прутков не требуется. Оплавлеше торца пьедестала осуществляется также полем описанного одночастотного формообразующего индуктора. Технические показатели процесса группового выращивания круглых прутков с электромагнитным формообразованием превосходят полученные первыми двумя методами, а оборудование проще, чем при других конструкциях, и реализуется на базе серийно выпускаемой высокочастотной установки Криеталл-502 [75]. [c.112]

Рис. 7. Определяющая диаграмма для долговечности на базе 10 циклов при осевом циклическом нагружении однонаправленных композитов, изготовленных методом мокрой укладки поверхностно обработанных высокомодульных волокон в эпоксидную смолу Шелл Эпикот 828/MNA/BDMA объемная доля волокон 62%, 7000 ЦИК л/мин сюда включены результаты рис. 3 [6]. а — среднее напряжение, Н/мм .

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...