Фотолиз комплексов в матрицах реакционноспособных веществ

Фотолиз комплексов в матрицах реакционноспособных веществ [c.157]

При исследовании в матрицах недавно открытых нестабильных комплексов переходных металлов применяют два основных метода, разрабатываемых параллельно примерно с 1970 г. Сначала мы рассмотрим фотолиз стабильных исходных соединений непосредственно в матрице - метод, который был успешно использован ранее для получения других частиц. Второй метод заключается в использовании матриц из реакционноспособных веществ, с которыми реагируют или частицы, получаемые фотолизом молекул исходных соединений, или атомы металлов, конденсирующиеся в такие матрицы. [c.154]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...