Материалы диэлектрические для тонкопленочных схем

Электрохимическим окислением неващищенных маской участков поверхности материала покрытия или основного металла также можно формировать рельефные покрытия. Этот процесс широко применяется при изготовлении тонкопленочных конденсаторов гибридных интегральных схем, формировании межслойной диэлектрической изолирующей пленки, изготовлении шкал, сеток, лимбов на непрозрачном основании. [c.551]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...