Стигматическая фокусировка при малых отклонениях

Стигматическая фокусировка при малых отклонениях [c.584]

В этой короткой главе было дано введение в системы отклонения пучка. Вначале было рассмотрено сканирующее отклонение. Были выведены выражения как для электростатических, так и для магнитных отклоняющих полей. Было показано, что стигматическая фокусировка поддерживается при малых отклонениях. Была выведена теория аберраций для комбинированных электростатических и магнитных мультипольных линз и дефлекторов. Заключают главу краткий обзор электростатических и магнитных призм и предложение исследовать необычные виды симметрий. [c.598]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...