ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Травление ионной бомбардировкой из "Металлография железа 1 " Вообще говоря, если энергия ниже 5 кв, т. е. если ионы проникают на глубину менее 10—20 А (1—2 нм), действие ионной бомбардировки ограничивается поверхностью — удаляются примеси, слабо сцепленные с поверхностью, например, загрязняющие пленки, жир, окисные слои и др. [c.46] Удаление вещества ионной бомбардировкой дает возможность готовить из образцов толщиной в несколько микрон тонкие фольги для непосредственного наблюдения в электронном микроскопе (ср. гл. 13). [c.46] В металлографии ионную бомбардировку применяют для избирательного травления, приводящего к образованию рельефа. Так выявляются, например, границы зерен, дислокации, линии скольжения и т, д. [c.46] В некоторых случаях ионная бомбардировка, если пучок ионов имеет достаточную энергию (5 кв и более), изменяет структуру поверхности образца. Ионы проникают в более глубокие слои кристаллической решетки, нарушают ее, способствуют образованию новых дефектов, например, волокнистых структур вследствие ориентированной рекристаллизации и т. д. Все это может привести к ошибочной интерпретации структуры. [c.46] Ионная бомбардировка может вызвать и химические реакции, например, окисление, азотирование и пассивацию, когда бомбардируемый материал склонен реагировать с используемыми ионами. [c.46] Этот метод начали применять около 15 лет тому назад и он дал хорошие результаты при обработке образцов, которые плохо поддаются травлению химическими реактивами. [c.46] Ионное травление применяют главным образом при изучении металлов, используемых в ядерной энергетике, а так же как метод препарирования в электронной микроскопии, благодаря тому, что оно позволяет относительно легко регулировать степень травления. Метод ионной бомбардировки мог бы дать интересные результаты в оптической микроскопии. [c.46] Вернуться к основной статье