ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Получение блестящих покрытий из "Новые покрытия электролиты в гальванотехнике " При электролитическом лужении жести и проволоки необходимо применение высоких плотностей тока и оплавление покрытий. [c.24] Допустимая плотность тока в сернокислых элекролитах при интенсивном пере.мешивании составляет 10—20 а/дм , что недостаточно для лужения жести. Кроме того, оплавление олова, полученного из сернокислых растворов, связано с большими трудностями. [c.24] Более производительными, устойчивыми и дешевыми являются галогенные электролиты, содержащие хлористое олово, соляную кислоту и фториды калия, натрия или аммония [90, 92—94]. В галогенных электролитах осаждаются плотные мелкокристаллические оловянные покрытия. [c.24] Как показали исследования П. С. Титова и 3. А. Тубышкиной [53], из растворов, содержащих одновременно фтор- и хлор-йоны, олово выделяется на катоде с высокой поляризацией. Они объясняют это образованием комплексного аниона. [c.24] Высокая катодная поляризация обусловливает получение мелкокристаллических осадков олова и хорошую рассеивающую способность электролита. [c.24] Двойрин [45] подсчитал, что 1 л галогенного электролита дешевле 1 л сернокислого раствора в 1,8 раза и щелочного станнатного раствора в 2,3 раза. Он рекомендует галогенный электролит, описанный И. Е. Гуревичем, для покрытий профилированных деталей на толщину до 5—40 мк. В стационарных ваннах применяется плотность тока 2—5 а дм при температуре 25—30° и воздушном перемешивании (0,5 л/мин на 1 л раствора). Выход по току составляет 95—98%. [c.25] Механическая полировка, применяемая для создания блеска на покрытиях, малопроизводительна, связана с тяжелым и вредным для здоровья физическим трудом, необходимостью трудоемкой очистки деталей после полирования. Кроме того, этим способом невозможно полировать сложнопрофилированные изделия. При полировке снимается часть металла, расходуются дефицитные хлопчатобумажные круги, окись хрома и т. д. Механическая полировка не позволяет полностью автоматизировать процесс нанесения гальванопокрытий, так как для полировки и последующей очистки детали выводятся из потока. При механической полировке не удается получить блеск на цинковом, оловянном и кадмиевом покрытиях. [c.26] В настоящее время все шире внедряется химическая и электрохимическая полировка и получение блестящих гальванопокрытий непосредственно в ванне. Электрохимическая и химическая полировка подробно описаны в литературе [1—6] и в нащей работе не рассматриваются. [c.26] Блестящие гальванопокрытия осаждаются в электролитах, содержащих специальные органические добавки блескообразо-ватели, выравнивающие агенты, антипиттинги и др. Такие электролиты в настоящее время применяются для получения не только защитно-декоративных, но и защитных и специальных покрытий (цинковых, кадмиевых, серебряных и оловянных). После полировки они менее чувствительны к захвату руками, медленнее тускнеют на воздухе и в больщинстве случаев более коррозионно-стойки. [c.26] Несмотря на большое число работ по изуч ению электроосаж--дения блестящих покрытий, механизм этого процесса еще далеко не выяснен. [c.26] По вопросу о механизме действия блескообразователей также нет единого мнения. [c.27] Горбунова с сотрудниками [107] считает, что причиной сглаживания является пленка на катоде, содержащая гидроокиси и поверхностно активные вещества и регулирующая режим подачи ионов к катоду. [c.27] Некоторые авторы полагают, что бл ескообразователи или продукты их катодного восстановления, адсорбируясь на катоде, благоприятствуют росту кристаллов в плоскости, параллельной поверхности покрываемого металла. Происходит поочередная адсорбция и десорбция добавок. В качестве доказательства этой гипотезы приводится слоистость блестящих осадков. Однако слоистость покрытий не обязательно обусловливается адсорбцией и десорбцией поверхностно активных веществ. Например, слоистое строение некоторых покрытий вызывается неравномерностью выделения водорода на катоде [108]. Согласно второй теории, блескообразователи адсорбируются не на всей поверхности катода, а лишь на ее активных центрах [109, 118, 132]. По мнению Ю. Ю. Матулиса [109, 133], блескообразователи не успевают диффундировать ко всем катодным участкам из-за их малой концентрации по сравнению с другими компонентами раствора. Он считает, что блеск осадков во многих случаях вызывается не первичными добавками, а продуктами их восстановления выделяющимся на катоде водородом или продуктами их взаимодействия с электролитом. Как правило, адсорбционная пленка представляет собой золь высокой степени дисперсности. Стабилизируется этот золь либо защитными коллоидами, либо образованием комплексов с блескообразователями. [c.27] Адсорбцией поверхностно активных веществ на выступающих участках катода объясняется также [112, 113] так называемая выравнивающая способность растворов (сглаживание поверхности), обеспечивающая заполнение рисок, царапин и впадин и получение гладких осадков при введении специальных выравнивающих добавок, например кумарина, хинолина, 2,2-бипиридина и др. [c.28] Радиохимические исследования [114] и фотографирование пленки, образующейся в прикатодном слое [115], показали, что добавочный агент или продукт его реакции адсорбируется и со-осаждается преимущественно на выступающих участках катода. Однако механизм блескообразования и способность к выравниванию, вероятно, различны. В ваннах матового никелирования, как и в ваннах блестящего никелирования, риски и царапины заполняются, но при матовом никелировании появляется собственная неровность осадка [116]. Имеются также данные, что ванны полублестящего никелирования имеют лучшую выравнивающую способность, чем ванны блестящего никелирования. [c.28] Блокирование активных участков и субмикровыступов обеспечивает сглаживание зерен и более плотную их упаковку. В некоторых случаях возможно измельчение зерна, образование зерен более однородного размера, как это наблюдается при осаждении никелькобальтовых сплавов. [c.28] В других случаях поверхностно активные вещества адоорби-руются на определенных гранях кристаллов, что вызывает измельчение и ориентацию зерен, наприм ер при цинковании в сернокислом растворе, содержащем дисульфонафталиновую кислоту [103]. [c.28] Вернуться к основной статье