ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы на зеркале расплава и у фронта кристаллизации. Для управления глубиной расплава и улучшения стабильности температурного поля при отклонениях размеров пьедестала от заданных предусмотрен графитовый нагреватель сопротивления для дополнительного (так называемого фонового) обогрева боковой поверхности пьедестала. Предусмотрен привод вращения пьедестала, обеспечивающий осевую симметрию температурного поля, несмотря на неосесимметричную форму концентратора [73], Схема печи показана на рис. 52. [Выходные данные]