ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Стационарное течение раствора может приводить к образованию зон стагнации в пограничном слое, к существенной неоднородности распределения концентрации вблизи поверхности растущего кристалла и, как следствие, образованию ростовых дефектов. Поэтому в технологии высокоскоростного выращивания кристаллов используется нестационарная подача раствора в ростовую камеру. [Выходные данные]