ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы В микротехнологии существовала потребность в температурных измерениях и новых методах, поскольку для управления температурным режимом технологических операций необходимо с высокой точностью и скоростью измерять температуру подложек (полупроводниковых и диэлектрических монокристаллов, стекол и т.д.). С помощью традиционных методов за 30 лет работы не удалось обеспечить ни непрерывного температурного мониторинга in situ, ни управления температурой. Невозможно было даже проводить систематические исследования температурных режимов поверхности вследствие низкой надежности результатов и высокой трудоемкости их получения. Такая же картина наблюдалась в области эпитаксиального роста пленок, ионной имплантации полупроводников, быстрых термических процессов (где воздействие на поверхность осуществляется с помощью оптического излучения большой интенсивности). [Выходные данные]