Специальные методы формирования рисунка микросхем

Для формирования рисунков слоев (резистивного, проводящего, диэлектрического и т. д.) на подложке микросхемы применяются фотошаблоны, маски и трафареты. При изготовлении микросхем специального назначения требуется комплект, СОСТОЯЩИЙ из 5—7 фотошаблонов, масок нли трафаретов. Фотошаблоны применяются для получения прецизионных рисунков слоев, изготовления контактных и свободных масок и трафаретов методом фотолитографии. Свободные маски или трафареты яримеияются при изготовлении групп пленочных элементов средней плотности, не требующих высокой точности. [c.74]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...