Сульфатхлоридный электроли

Никелевые покрытия обычно восприимчивы к частицам любой природы, за исключением силикагеля. Аморфные частицы силикагеля в сульфатхлоридном электролите включаются в покрытия незначительно (десятые доли процента) частицы кремнезема включаются в большей степени—1—2% (масс.). Более успешным было соосаждение силикагеля марки КСМ-6п с никелем [c.123]

Шлифовальные круги и ленты с абразивными свойствами производят при включении в КЭП частиц карборунда. Покрытия получают на горизонтально расположенных катодах в сульфатхлоридном электролите (pH 1,2—1,3) при 45—50 °С и г к=0,5—1 кА/м . Частицы размером 80—100 мкм взмучиваются сжатым воздухом в течение 2 мин после каждых 12—17 мин электролиза. Концентрация частиц в суспензии 2—4 -кг/м . [c.145]

Согласно [43], с ростом концентрации корунда от О до 200 кг/м в сульфатхлоридном электролите внутренние напряжения КЭП падают с 125 до 62 МПа, твердость растет с 28 до 40 ГПа. Содержание второй фазы в КЭП увеличивается от 1,3 до 5,3 /о (масс.) с повышением концентрации от 25 до 150 кг/м . Из суспензий силикагелей различных марок не удалось получить КЭП. Не- большое количество включений Si02 было обнаружено н в никелевых покрытиях. Это объясняется наличием у частиц отрицательного заряда в электролите (определялся по адсо рбции на них катионных красителей) [16]. [c.183]

Для осаждения перечисленных покрытий применялся сульфатхлоридный электролит (pH 4,5—5) осаждение проводилось при 28 2°С в течение 22—48 ч. Высокая твердость кермета Ni—W позволяет использовать это покрытие во вставных резцах. В покрытии никель— алмаз в поперечном шлифе обнаруживалось меньшее число частиц, чем при фотографировании горизонтальной поверхности. Это может быть объяснено или расположением частиц при наносе параллельно поверхности, или же неравномерным травлением горизонтальной поверхности шлифа при подготовке его для металлографических исследований, а также периодическим захватом большего, чем среднее, числа частиц. Соосаждение АЬОз наблюдалось только в тонком слое в начале электролиза. Последующие слои осадка не содержали включений АЬОз. [c.243]

Изучалось [225] воздействие на электродные процессы твердых частиц AI2O3, диспергированных в сульфатхлоридном электролите никелирования с добавкой сахарина и бутиндиола. Из потенциостатических данных следует, что наблюдаемое затруднение пассивирования никелевого анода тем больше, чем крупнее частицы. Крупнозернистые порошки полностью выводят из пассивного состояния, или способствуют существенному увеличению плотности тока. Порошки с частицами порядка нескольких микрометров (например, порошок корунда КО-7) не вызывают активирования анода. [c.139]

Покрытия никелем обычно заращивают частицы любой природы. Аморфные частицы силикагеля в сульфатхлоридном электролите включаются в покрытия незначительно (доли процента). Макрочастицы кремнезема включаются в большей степени— 1—2%. Достаточно легко соосаждается с никелем силикагель марки КСМ-6п из аммонийного электролита. При pH электролита 2,4, температуре 60 °С и к=5—10 А/дм содержание включений достигало 1,5—3,5%. Покрытия с высоким содержанием силикагеля или подобных ему адсорбентов перспективны при создании приборов, работающих по принципу адсорбции, а также для оценки физико-химических свойств жидкостей и газов. [c.165]

С ростом концентрации АЬОз от О до 200 г/л в сульфатхлоридном электролите внутренние напряжения КЭП снижаются с 125 до 62 МПа, а твердость возрастает с 2,8 до 4,0 ГПа. С по-выщением концентрации от 25 до 150 г/л содержание II фазы в КЭП увеличивается от 1,3 до 5,3% [2]. [c.179]

Для увеличения содержания включений некоторых твердых смазок a-BN и M0S2 (d 2 мкм) в никелевые покрытия из сульфатхлоридного электролита использовали указанные выше добавки. Ионы Т1+ и s+ хотя и способствовали повышению содержания второй фазы, но приводили к образованию некачественных покрытий. Лучшие результаты были получены при введении иона Li+. Среди ПАВ наилучшее влияние оказывает катионоактивная добавка (КАД) в количестве 0,02—1 кг/м при ее использовании расширились пределы pH и плотности тока, а также в 1,5—2,5 раза увеличилось содержание второй фазы в покрытии. На стали, латуни, меди в этом случае осаждаются гладкие покрытия, а не рыхлые, получаемые в отсутствие этой добавки. КАД по-разному влияет на разряд ионов никеля значительно тормозит его в чистом электролите, облегчает при со-осаждении с M0S2 и несколько затрудняет при наличии частиц la-BN. [c.63]

Подача алмазного порошка на ленту осуществляется различными способами, например взмучиванием электролита воздухом, подаваемым через трубку. После прекращения подачи воздуха алмазный порошок осаждается под действием силы тяжести на ленту и дно ванны. Закрепление алмазного порошка производится в сульфатхлоридном никелевом электролите. Состав электролита следующий (г/л) 350 никеля сернокислого семиводного 50 никеля хлористого шестиводного 30 борной кислоты. Режим электролитической ванны температура электролита 50° С, кислотность электролита 1,4—2,0, плотность тока 5—10 А/дм . Время закрепления рассчитывается в зависимости от зернистости алмазного порошка, плотности тока и других факторов. [c.86]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...