ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Действие хлорид-ионов и активно-пассивные элементы из "Коррозия и борьба с ней " В конечном счете в отдельных местах поверхности металла образуются ядра стехиометрического оксида разрастаясь в стороны. [c.83] Первичная пассивная пленка вырастает в многослойную адсорбционную структуру М-О-Н, которая может считаться аморфным нестехиометрическим оксидом. По своим защитным свойствам он заметно отличается от стехиометрического оксида, в который он в конце концов может превратиться. [c.84] Ионы хлора и, в меньшей степени, других галогенов нарушают пассивность или препятствуют ее возникновению на железе, хроме, никеле, кобальте и нержавеюш,их сталях. С точки зрения теории оксидной пленки, ионы С1 проникают в оксидную пленку через поры или дефекты легче, чем другие ионы (например SO ). Возможно также, что они могут коллоидально диспергировать оксидную пленку и увеличить ее проницаемость. [c.84] С другой стороны, согласно адсорбционной теории [16], ионы С1 адсорбируются на поверхности металла, конкурируя с растворенным О2 или 0Н . Достигнув поверхности металла, С1 способствует гидратации ионов металла и облегчает переход их в раствор, в противоположность влиянию адсорбированного кислорода, который снижает скорость растворения металла. Иначе говоря, адсорбированные ионы С1 повышают ток обмена (снижают перенапряжение) для анодного растворения перечисленных металлов по сравнению с наблюдаемым для поверхности, покрытой кислородом. В результате железо и нержавеющие стали часто невозможно анодно запассивировать в растворах, содержащих значительные концентрации С . Напротив, металл продолжает растворяться с высокой скоростью как при активных, так и при пассивных значениях потенциала. [c.84] Ионы галогенов в меньшей степени влияют на аНодное поведение титана, тантала, молибдена, вольфрама и циркония, и их пассивное состояние может сохраняться в среде с высокой концентрацией хлоридов, в отличие от железа, хрома и Fe—Сг-спла-вов, теряющих пассивность. Иногда это объясняют образованием на перечисленных металлах (Ti, Та, Мо и др.) нерастворимых защитных основных хлоридных пленок. Однако в действительности подобная ситуация возникает благодаря относительно высокому сродству этих металлов к кислороду, что затрудняет замещение ионами С1 кислорода из пассивных пленок, вследствие более высоких критических потенциалов металлов, выше которых начинается питтингообразование. [c.85] Вернуться к основной статье