ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Физические методы нанесения покрытий из "Молибден в ядерной энергетике " Молибден и другие тугоплавкие металлы (в частности, вольфрам) обычно испаряют электронно-лучевым нагревом в условиях глубокого вакуума (10 —10- мм рт. ст.). Метод вакуумного напыления имеет следующие недостатки 1) большие потери, напыляемого металла 2) загрязнение покрытия остаточными газами в камере и в исходном металле 3) трудность нанесения толстых покрытий тугоплавких металлов из-за низкой летучести и малой скорости испарения осаждаемого металла 4) сложность нанесения равномерных по толщине покрытий на подложки с рельефной поверхностью 5) недостаточная термическая стабильность покрытия из-за большого различия в температурах зон конденсации и испарения 6) невозможность получения текстурированных покрытий из-за сложности регулирования режима осаждения 7) недостаточная адгезия покрытия 8) пористость покрытия. Вследствие этих недостатков данный метод нанесения молибденовых и вольфрамовых покрытий широко не применяется. [c.106] Метод катодного напыления. По существу этот метод имеет много общего с предыдущим [58]. Покрываемое изделие здесь служит катодом в высоковольтной установке. Распыляемым анодом служит или молибден, или вольфрам, соответственно по форме копирующий поверхность катода и удаленный от него на строго заданное расстояние. Этому методу присущи многие недостатки, характерные для метода физического испарения в вакууме, однако он позволяет получать покрытия с более высокой адгезией путем предварительного катодного травления ловерхности подложки. Применение этого метода из-за его -сложности также ограничено. Чаще всего он используется в научных исследованиях, например для получения реплик в электронной микроскопии и для получения пленочных элементов микросхем в электронике. [c.106] Метод плазменного напыления при пониженном давлении в инертной атмосфере. Этот метод в последние годы довольно широко применяется для получения пленок с полупроводниковыми свойствами [157]. В этом методе с помощью различных видов самостоятельного (или несамостоятельного) тлеющего разряда удается наносить равномерные по толщине молибденовые (и вольфрамовые) покрытия с высокой адгезией и малым содержанием примесей. В таких установках вводимый инертный газ переходит в состояние плазмы под воздействием высокочастотного пли высоковольтного разряда. Ионная бомбардировка мишени (анода) приводит к ее распылению и осаждению распыленного материала на подложке. Так как вырванные атомы имеют энергию порядка сотни электронвольт, они способны проникать в поверхностный слой подложки и микротрещины, обеспечивая тем самым хорошую адгезию. Несмотря на положительные качества, получать толстые термостабильные покрытия этим методом трудно и дорого. [c.106] Плазменное напыление с помощью дуговых плазматронов. [c.107] Этот метод позволяет наносить покрытия с высокими скоростями, но качество покрытий невысокое плохая адгезия, высокая пористость, недостаточная термостабильность. Поэтому этот метод мало перспективен п почти не применяется для получения качественных покрытий молибдена (и вольфрама) со специальными свойствами [55]. [c.107] Вернуться к основной статье