Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама
Точечные дефекты, возникаюш ие в кристалле под действием излучения, образуют локальные напряженные области, которые вызывают увеличение параметров решетки (среднее расстояние между соответствую ш ими узлами решетки) и снижение плотности.

ПОИСК



Физические свойства полупроводников

из "Влияние облучения на материалы и элементы электронных схем "

Точечные дефекты, возникаюш ие в кристалле под действием излучения, образуют локальные напряженные области, которые вызывают увеличение параметров решетки (среднее расстояние между соответствую ш ими узлами решетки) и снижение плотности. [c.282]
Увеличение прочности облученных материалов часто связывают с закреплением дислокаций (т. к. точечные дефекты затрудняют движение дислокаций). Этим же механизмом можно объяснить увеличение упругих постоянных. Наблюдаюш ееся иногда уменьшение упругих постоянных связывают с наличием вакансий. [c.282]
Скорости диффузии при облучении возрастают, так как диффузия в твердых телах органически связана с образованием дефектов, т. е. вакансий и (или) междоузлий. [c.282]
Облучение часто вызывает фазовые превращения. Так как тепловые волны, или фононы, рассеиваются дефектами, то в результате радиационных повреждений уменьшается теплопроводность материала. Этот эффект особенно заметен при низких температурах ( 50° К), когда решеточная теплопроводность обычно высока. [c.282]
Аналогичные изменения претерпевает удельная электропроводность материала. В этом случае носители тока (электроны или дырки) отклоняются в результате отталкивания или притяжения со стороны ионизованных дефектов. [c.282]


Вернуться к основной статье

© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте