ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Химия из "Гальванические покрытия в машиностроении Т 1 " В табл. 1 приведены атомные номера, валентность и атомная масса элементов. [c.22] Концентрация растворенных в воде веществ выражается числом грамм-эквивалентов вещества N, растворенного в 1 л раствора (нормальность) числом граммов вещества С, растворенного в 1 л раствора, г/л числом граммов вещества Р, растворенного в 100 г раствора, %. [c.22] В табл. 2—5 представлены зависимости между кон цент ращ. ей и плотностью растворов некоторых химикатов. [c.22] В табл. 6 приведены данные о процентном содержании металлов в их солях и окислах для наиболее часто применяемых в гальванотехнике веществ. [c.22] Электрохимия. В табл. 7 приведены стандартные электродные потенциалы металлов в водных растворах при температуре 25 С. [c.22] Значения электрохимических эквивалентов некоторых элементов приведены в табл. 8. [c.22] В табл. 9 приведены значения постоянных а и Ь в уравнении Тафеля. [c.22] Последнюю стадию, происходящую на поверхности металла, можно представить как суммарный процесс распределения адсорбированных атомов в решетке металлических кристаллов. При этом рассматриваются два предельных случая. В первом случае металлические ионы проходят двойной электрический слой в любом месте поверхности, разряжаются и в виде адсорбированных атомов диффундируют к местам роста и распределяются там в решетке. Во втором случае металлические ионы поступают непосредственно к местам роста на катоде, одновременно восстанавливаются и распределяются в решетке. [c.22] Ад-ионы— не полностью нейтрализованные, частично дегидратированные ионы. [c.22] Скорость протекания всего процесса в целом определяется стадией, сопровождающейся наибольшим торможением, причинами которого могут быть замедленный перенос разряжающихся ионов к катоду, т. е. концентрационное перенапряжение (1-я стадия) замедленный разряд ионов, который обусловлен трудностью переноса заряда через двойной электрический слой и изменением физико-химического и энергетического состояния ионов (дегидратация, десольватация, распад комплексных ионов и др.), т. е. электрохимическое перенапряжение (2-я стадия) трудности, связанные с построением кристаллической решетки (замедленная диффузия ад-ато-мов или ад-ионов по поверхности катода к местам роста кристаллов, затруднения при внедрении атомов в кристаллическую решетку или при образовании двух- или трехмерных кристаллических зародышей), т. е. кристаллизационное перенапряжение (3-я стадия). Значения кристаллизационного перенапряжения сравнительно невелики и зависят от природы металла 1 состояния поверхности катода, которое во время электролиза меняется в результате адсорбции посторонних ионов и молекул органических веществ. Для многих металлов (5п, РЬ, Ag, Нд, Сс1 и др.), имеющих сравнительно большие токи обмена, кристаллизационное перенапряжение составляет всего лишь несколько милливольт и возникает, когда электрохимическое перенапряжение при выделении этих металлов очень мало, например, при электролизе растворов простых солей этих металлов в отсутствие поверхностно-активных добавок. [c.26] Большое значение при электролизе имеет так называемое пассивацнониое перенапряжение, или перенапряжение ингибирования, обусловленное прочной адсорбцией посторонних частиц на поверхности электрода. [c.26] Кроме перечисленных причин торможения электродного процесса, существуют факторы, затрудняющие процесс вследствие медленного протекания одной из химических реакций, составляющих суммарную электродную реакцию. Это явление носит название химического (реакционного) перенапряжения. [c.26] Таким образом, процесс выделения металла на катоде протекает при сдвиге, иногда весьма значительно. , потенциала (по сравнению с равновесным) в сторону отрицательных значений для преодоления указанных торможений. [c.26] После смещения потенциала катодл в сторону отрицательных значений (по сравнению с равновесным потенциалом выделяемого металла) в растворе начинается образование кристаллических зародышей выделяемого металла на электроде. Первоначально образуемые зародыши металла имеют толщину нескольких атомных слоев, и слой этих зародышей может рассматриваться как двухмерный. Дальнейший рост двухмерного зародыша может происходить как в плоскости самого зародыша, так и в направлении, перпендикулярном плоскости двухмерного зародыша. [c.26] На рис. 1 схематично показан двухмерный зародыш и направления его роста. Рост первоначального двухмерного зародыша может принципиально идти по трем направлениям, указанным на рис. 1 стрелками 1, 2 и 3. Энергетически наиболее вероятным направлением роста является направление /, так как работа образования зародыша в положении I минимальна и минимально число свободных граней вновь образуемого зародыша. В положении 2 число свободных граней нового зародыша будет на одну больше, и поэтому больше работа его образования, и, следовательно, рост двухмерного кристалла в направлении 2 будет менее вероятен, чем в направлении 1. Наконец, наименее вероятным направлением роста является направление 3. [c.26] Обычно рост объемного кристалла выделяемого металла идет по всем направлениям, хотя скорость роста в отдельных направлениях более высокая. Наряду с образованием зародышей металла иногда возможен процесс их окисления, т. е. растворе1]ия, и наблюдаемая скорость роста металлического осадка является разностью скоростей образованпя и растворения выделяемого металла. [c.27] Скорость роста металлического катодного осадка в различных направлениях зависит от режима электролиза. При низких значениях поляризующего катодного тока и незначителыюм смещении катодного потенциала от равновесного значения может произойти замедление роста кристалла в отдельных направлениях, и кристалл начнет расти только в одном направлении, приобретая нитевидную форму. Такая форма наблюдается при кристаллизации из раствора AgNOз в присутствии некоторых добавок, например олеиновой кислоты. Это связано с тем, что при малых плотностях тока происходит пассивация всех, кроме одной, граней кристалла вследствие адсорбции на них поверхностно-активных веществ, которые всегда содержатся в растворе. Адсорбция позволяет на одной из граней поддерживать даже при малой силе тока такую плотность тока, которая превышает скорость поступления к этой грани поверхностноактивных веществ и обеспечивает рост этой грани. [c.27] С ростом силы поляризующего тока скорость роста осадка на катоде возрастает. При этом увеличивается число возникающих в различных точках растущего осадка новых кристаллических зародышей. Расстояние между новыми возникающими зародышами и их число зависят от концентрации раствора, с у.ченыиснис.м которой расстояния и число зародышей возрастают. [c.27] Т1 и др.). Для этих металлов характерна повышенная реакционная способность по отношению к среде и образование поверхностных соединений. Они выделяются на катоде в виде тонкого слоя окиси или гидроокиси. [c.27] Вернуться к основной статье