ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Влияние нестационарных электрических и других режимов на свойства КЭП из "Неорганические композиционные материалы " Установленное влияние нестационарных электрических режимов (реверсирование, наложение переменного тока, изменение параметров выпрямленного тока) и наложения магнитного и ультразвукового поля на структуру электрокристаллизуемых покрытий [2, 151, 177, 178] дает основание предположить, что эти факторы играют определенную роль при формировании структуры покрытий и при наличии веществ П фазы. Известно, что реверсирование тока в анодный период тока приводит к предотвращению роста кристаллов никеля за счет пассивирования поверхности и, вследствие этого, к образованию слоистых блестящих покрытий. Наложение переменного тока при электрокристаллизации меди [179] обусловливает многообразие структур покрытий, вследствие чего условия для адсорбции и заращивания дисперсных частиц будут различаться (рис. 3.23). [c.112] На микрофотографиях, полученных методом СЭМ, видны остроконечные и пятиугольные пирамиды, кубы, иглообразные кристаллы, размеры которых уменьшаются от 3 до 0,5 мкм при увеличении частоты тока от О до 5000 Гц. [c.113] По данным работы [176], наложение пульсирующего тока однополупериодного выпрямления (50 Гц) существенно не влияло на составы КЭП Си—С, выделяемых из сульфатного раствора, содержащего ПАВ. Хотя покрытия остаются в этом случае более плотными и менее напряженными, содержание графита (4—12%) не зависело заметно от нестационарности процесса. [c.113] Можно предположить, что наложение магнитного поля влияет на электрохимические реакции переноса ионов и заряженных диспергированных частиц при прохождении раствора через поле, поскольку в магнитном поле изменяются условия протекания электрофореза, электродиализа и электроосмоса. [c.113] При воздействии УЗ поля измельчение частиц в КЭП достигало 0,5 мкм, а в его отсутствие — 2 мкм. В результате отжига при 800 °С плотность КЭП, полученных с применением ультразвукового поля, понижается на 0,17%, в то время как плотность обычных КЭП уменьшается на 0,23%. Отмечено, что из-за больших напряжений в покрытиях, возникаюш,их при воздействии УЗ поля, в КЭП Со—А12О3 наблюдается увеличение прочности при растяжении (на 5—8%). Однако удлинение при растяжении составляет 4,4°/о (вместо 3,4% в отсутствие поля). [c.114] Для повышения сцепления покрытий Си—иОг, осажденных из чистого раствора, содержащего уранил-ионы, использовалось периодическое воздействие УЗ поля в процессе электролиза [2, с. 73]. [c.114] НОГО тока, хотя и не влияло существенно на содержание II фазы, но приводило к изменению физических свойств покрытий. Характеристику последних целесообразно выражать через один параметр, в частности через величины микротвердости. [c.115] Проведена серия работ [183] по изучению роли нестационарных условий на свойства покрытия с матрицей из никеля. Прн периодическом токе с обратным регулируемым импульсом выделены нечетко текстурироваиные покрытия, содержащие до 20% (об.) Zr (d 5 мкм) рост соотношения ijia приводит к уменьшению доли II фазы с 17 до 7 об. (%) Следует отметить, что в нижних слоях, содержание II фазы в 6—7 раз меньше, чем в объеме всего покрытия, видимо, из-за преобладания электрокристаллизации никеля перед адсорбцией частиц Zr . [c.115] При сопоставлении микрофотографий поверхности (рис. 3.24 и 3.25) видно диспергирующее действие на частицы II фазы в КЭП определенного соотношения амплитуд катодного и анодного токов. На рентгенограммах покрытий, полученных на ДРОН-20 при Река-излучении, видно сохранение постоянной а = 352 0,12 пм решетки никеля, но уширение линии Г-0,260, обусловленное влиянием дисперсной фазы. Включения высокодисперсных (0,1 — 1 мкм) частиц а-АЬОз и Zr (1—3 мкм) при использовании нестационарного режима ( к/га = 2,8 тк/та = 2,6 / = 50 Гц /кср = 20 А/дм2 т = 20 мин) распределены равномерно, и при этом не наблюдается агломерирования частиц в электро-кристаллизованном металле, отмеченные в работе [2] для стационарного электролиза. [c.115] На рис. 3.26 приведена зависимость структурных свойств КЭП от отношения амплитуд катодной и анодной составляющей тока ( к/га). Регулированием величины анодного тока можно определить равномерность распределения гетерофазных включений и предотвратить образование их агломератов. Размеры областей когерентного рассеяния (ОКР) в КЭП всегда ниже, чем в контрольных покрытиях, однако при этом в КЭП меньше микронапряжения [183, 184]. [c.115] С целью усиления внедрения дисперсных частиц в покрытия и решения других технологических задач используют ультразвук, электролиз при нестационарных условиях, поле центрифуги и магнитное поле [185]. При использовании последнего движение ионов и заряженных диспергированных частиц усиливается. Согласно данным работы [238], при получении гальвано-пластических покрытий дисперсную фазу (монокристаллы, волокна, усы) рекомендуется поддерживать во взвешенном состоянии за счет использования магнитного поля. [c.116] В заключение следует отметить, что любое изменение плотности тока и других условий закрепления и заращивания частиц, должно привести к изменению состава и свойств КЭП. [c.117] Вернуться к основной статье