ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Испарение материала из "Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры " В открытом сосуде пары удаляются диффузией в окружающую среду. Если эта диффузия ничем не ограничена и давление паров над жидкостью остается меньше равновесного при данной температуре, то испарение при любой температуре идет до конца. [c.41] При глубоком вакууме вместо кипения жидкость усиленно испаряется с поверхности, потому что необходимый для кипения перепад температур в нагреваемой жидкости (от поверхности к глубине) становится столь большим, что его возникновение невероятно. Эта закономерность особенно ярко выражена у металлов в силу их высокой теплопроводности. Поэтому испарение жидких металлов в вакууме следует рассматривать как явление почти исключительно поверхностное. [c.41] Скорость испарения определяется а) упругостью паров данного вещества и б) давлением остаточного газа под колпаком вакуумной камеры. [c.41] Упругость паров данного вещества зависит в основном только от его температуры и практически не зависит от давления окружающего газа. [c.41] Но от этого давления должна зависеть диффузия пара из пограничного слоя над испарителем, т. е. скорость испарения. Чем больше давление остаточного газа, тем меньше должна быть скорость испарения. [c.41] Однако при малых остаточных давлениях, когда средняя длина свободного пролета молекул превышает размеры колпака вакуумной камеры (р Ю мм рт. ст.), влиянием остаточного газа можно пренебречь (рис. 16). [c.41] Вернуться к основной статье