ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Технология создания ДОЭ Типы фазовых микрорельефов и способы их получения из "Методы компьютерной оптики Изд2 " Ступенчатый многоуровневый профиль микрорельефа (см. рис. 1.19 и 1.20) соответствует квантованной по М уровням фазовой функции ф х,у) с шагом А(р определяемым из соображений технологичности и эффективности ДОЭ. Основной характеристикой ступенчатого рельефа ДОЭ с точки зрения технологии является степень его соответствия профилю фазовой функции ф (ж, у). Наличие технологических ошибок приводит к снижению дифракционной эффективности ДОЭ. [c.239] Получение значений бинарной фазы в формуле (4.5) на основе исходной фазовой функции 1р х,у) рассмотрено, например, в разделе 1.2 (см. рис. 1.18). [c.239] Важнейшими характеристиками фотошаблона (как реального, так и виртуального) являются параметры имеющихся на нем линий, особенно минимальное значение ширины линии и максимальное значение кривизны линии. Легче всего описать эти параметры для линий, имеющихся на бинарных шаблонах. При изготовлении бинарного ДОЭ фотошаблон является аь-тлитудной зонной пластинкой, разные виды которых подробно описаны в разделе 1.1, там же на простейших примерах охарактеризовано понятие зоны оптического элемента. Линии на фотошаблоне повторяют формы зон, занимая для бинарного ДОЭ около половины площади зоны. В частности, для изготовления фазовой дифракционной решетки в качестве фотошаблона используется амплитудная дифракционная решетка, темные полосы на которой образуют линии фотошаблона (см. рис. 1.1). В случае изготовления более сложных типов ДОЭ линии на фотошаблоне могут быть разной толщины и иметь значительную кривизну (см., например, рис. 1.5 и 1.9). [c.241] 6) однозначно определяются границы линии, кривизна и радиус кривизны линии в каждой точке трассы. [c.242] Вернуться к основной статье