ПОИСК Статьи Чертежи Таблицы Встречное четырехпучковое взаимодействие на пропускающих решетках в фоторефрактивных кристаллах с поглощением Анализ формы полосы усиления из "Лазеры на динамических решетках " В случае фоторефрактивных кристаллов выбором ориентации полярной оси можно реализовать различие в силах отражательных и пропускающих решеток из-за различных электрооптических постоянных. В наших обозначениях это эквивалентно различию в ту. [c.77] Наконец, если взаимодействующие волны имеют различные частоты, то, как следует из определения т,- (3.16), выбирая разность частот волн i и / существенно большей обратного времени релаксации решетки, записываемой этими волнами, т.е. [c.77] Система уравнений (3.36) переходит в систему уравнений (2.18) работы [8], если рассматривать встречное четырехпучковое взаимодействие в условиях строгого синхронизма (Ь = 0) при симметричном падении волн на границу среды (0i = /З3). [c.78] что выражение (3.54) подобно полученному выше в приближении заданных интенсивностей волн накачки (3.26). Из (3.54), в частности, следует, что в случае сред с нелокальным откликом (Im Г = 0) последнее слагаемое обращается в нуль, т.е фаза волны 4 определяется лишь фазами взаимодействующих волн, так как самовоздействие волн отсутствует. В случае же среды с локальным откликом нелинейное искажение фазы волны 4 будет отсутствовать лишь при условии Д = О, когда сумма интенсивностей волн, падающих на среду с одной стороны, равна сумме интенсивностей волн, падающих с противоположной грани [10]. [c.81] Обратим внимание еще на одно обстоятельство. В (3.54) входит фаза волны 1 на выходе из среды при z = /. Это означает, что фаза волны 4 содержит еще один источник нелинейных искажений, обусловленный неоднородностью среды, считанной волной I. [c.81] что Bf г описывает амплитуды решеток, а - их фазу, т.е. пространственное положение штрихов. [c.81] Пусть среда обладает локальным откликом (Кек=0). Тогда, как следует из (3.56), амплитуды решеток В и величина U постоянны, а фаза 1 меняется по линейному закону, т.е. [c.82] Выражение (3.57) показывает, что в общем случае штрихи решетки оказываются наклоненными по отношению к биссектрисе угла схождения записывающих волн, а период решетки отличен от периода интерференционной картины. Лишь в случае записи отражательной решетки при симметричном падении волн (Pi = / з) се штрихи не наклоняются, оставаясь параллельными границам среды, но при этом по линейному закону изменяется период решетки. Из выражения (3.57) следует, что поправка к вектору решетки является функцией интенсивности взаимодействующих волн. [c.82] В первом случае, если U = Q, выражение (3.58) превращается в известное решение Когельника [И] для объемной фазовой решетки, поскольку в силу равенства 1 = О выполняется условие Брэгга. [c.82] В случае записи отражательных решеток решение (3.59) из-за того, что и Ф О, отличает( от решения для статической решетки, а т может достичь единицы, если 2В = U. [c.82] Отсюда видно, что выражение для дифференциальной эффективности т совпадает с соответствующим выражением в случае дифракции на статической неоднородной решетке в условиях Брэгга. [c.83] Эти два уравнения позволяют определить поля волн з и Л 2, а по ним с помощью 7(d и г) получить ИЛ4. [c.84] Таким образом, при записи в поглощающих фоторефрактивных кристаллах только пропускающих решеток решения системы уравнений (3.34) выражаются через гипергеометрические функции. [c.84] Вернуться к основной статье